Occasion VERTEQ 1600-34 #9238531 à vendre en France

L'équipement de photorésistance VERTEQ 1600-34 est une plate-forme de nouvelle génération conçue pour offrir des performances supérieures sur le marché de la lithographie. Il dispose d'une combinaison unique de technologies qui lui permettent de produire avec précision des pièces complexes avec une grande précision. Le système comprend trois composants : un outil d'alignement de photomasques sans masque, une unité d'éclairage de patamer et une chimie photorésiste avancée. L'outil avancé d'alignement de photomasques masqués utilise une machine optique brevetée à trépied qui obtient une précision inégalée avec une précision de 0,5 μ m. L'outil d'éclairage de patamer utilise une gamme de sources de lumière laser, permettant l'exposition d'une plus grande zone avec des niveaux plus élevés d'uniformité. La chimie avancée des photorésistances permet une réplication très précise de motifs complexes avec une épaisseur de résistance inférieure à 0,2 μ m. 1600-34 est capable de produire des pièces complexes avec des résolutions aussi fines que 0,5 microns, allant bien au-delà de ce que produit la norme de 200nm minimum de l'industrie. Il est également capable d'une large gamme d'applications lithographiques telles que l'imagerie directe, l'alignement de superposition, et le tissage de substrats. VERTEQ 1600-34 offre une technologie de pointe, à la pointe de la technologie, capable de gérer tous les travaux de photolithographie les plus exigeants. Cet atout innovant permet de réduire le temps et les coûts associés à l'alignement des photomasques, à l'alignement des patamers et au traitement de la lithographie. Avec sa gamme de caractéristiques et de capacités, le modèle 1600-34 est le choix idéal pour les travaux de lithographie de haute précision.