Occasion VERTEQ 1600-55M #9245629 à vendre en France

VERTEQ 1600-55M Photoresist Equipment est un système de photolithographie avancé pour la photorésistance sur une variété de substrats. Cette unité est une solution optimale pour l'exposition de grands substrats, ainsi que pour exposer des motifs à haute résolution jusqu'à 10 μ m. Il dispose d'une uniformité et d'une résolution d'exposition précises avec une source lumineuse à LED qui produit une intensité d'éclairage constante sur sa zone de balayage active de 6 pouces. Il supporte une large gamme de longueurs d'onde et ne filtre que les diodes photo qui correspondent à la longueur d'onde et à l'état polariseur désirés de l'image du masque. Il est compatible avec un certain nombre de matériaux de substrat, dont le germanium, le silicium, l'arséniure de gallium et le quartz. 1600-55M dispose de cinq modes de fonctionnement conviviaux - mode de développement photorésist, mode d'alignement automatique, mode d'exposition multiple et mode de réglage d'image - qui facilitent la configuration et l'étalonnage des paramètres souhaités par les utilisateurs. Le mode de développement de la résine photosensible prépare le substrat avant l'ébauche, et le mode d'auto-alignement aligne automatiquement le substrat pour des expositions précises. Le mode d'exposition multiple supporte des expositions simultanées de motifs différents sur le même substrat. De plus, le mode de réglage d'image permet un contrôle plus fin des paramètres de calcul. VERTEQ 1600-55M dispose d'un scanneur de précision programmable pour fournir une résolution de motif jusqu'à 10 μ m. Il dispose d'une mise au point programmable et d'une vitesse de tracé avec un bouton de réglage fin pour un réglage optique précis. Il est équipé d'une caméra CCD haute résolution pour une définition précise des images du masque. 1600-55M dispose également d'une bibliothèque de masques intégrée et d'une fonction auto-focus en temps réel qui permet aux utilisateurs de configurer rapidement et facilement l'outil pour chaque exposition. De plus, l'actif est équipé d'un modèle de nivellement pour s'assurer que tous les masques sont précisément parallèles au substrat. L'équipement dispose également de dispositifs de sécurité avancés, tels qu'un capteur de proximité, pour s'assurer que les images scannées ne dérivent pas ou ne deviennent pas floues par les vibrations. En outre, le système dispose d'un formatage programmable par l'utilisateur et d'un panneau de contrôle convivial pour une utilisation facile et efficace. Avec sa haute résolution, son uniformité d'exposition de précision, son large éventail de capacités et ses interfaces conviviales, VERTEQ 1600-55M Photoresist Unit offre aux utilisateurs une solution optimale pour une photolithographie précise et à haute résolution. Cette machine robuste est un choix idéal pour une variété d'applications de photorésistance.