Occasion VERTEQ 1600-M #9123187 à vendre en France

VERTEQ 1600-M est un équipement de photorésistance numérique conçu pour la modélisation précise et haute résolution des substrats. Ce système utilise l'imagerie optique et le laser pour créer des caractéristiques très précises et uniformes sur la surface des matériaux semi-conducteurs et d'autres substrats. L'unité photorésist est équipée d'un scanner de haute qualité, d'un moteur laser et d'un progiciel de pointe qui fournit aux utilisateurs le contrôle ultime de la fixation des substrats. 1600-M est conçu pour être convivial et facile à utiliser. Grâce à son logiciel avancé, les utilisateurs peuvent rapidement modifier les fonctionnalités, modifier les résolutions et ajuster d'autres paramètres pour obtenir des résultats optimaux. La machine est également équipée d'un choix de scanners allant de 0,5 à 40 microns, permettant différentes résolutions de substrat et laser. En outre, une correction d'aberration est disponible, ce qui aide à la netteté de la fonctionnalité à travers le substrat. Grâce à son balayage à vitesse variable, l'outil est capable d'atteindre des débits élevés. VERTEQ 1600-M utilise un atout à double faisceau pour la fixation de substrat de haute précision. Ce modèle consiste en un faisceau laser de 1,06 μ m, couplé à un laser UV dont la longueur d'onde peut être ajustée jusqu'à 355 nm. Le mécanisme à double faisceau optimise la puissance d'écriture pour un placement et un contraste optimaux. Lorsqu'il est activé, le laser impulse précisément et uniformément sur la surface du substrat avec une excellente précision et une haute résolution. 1600-M comporte également plusieurs dispositifs de sécurité, dont un arrêt laser d'urgence, une protection contre les risques et des garanties contre la cohérence et les harmoniques. Son équipement de refroidissement à l'eau fournit un refroidissement supplémentaire au laser et au substrat, permettant un refroidissement précis du substrat tout en protégeant le système de la surchauffe. VERTEQ 1600-M est une unité de photorésistance avancée qui fournit la plus haute résolution pour le traitement des matériaux semi-conducteurs. Avec son logiciel convivial et son matériel facile à utiliser, les utilisateurs peuvent rapidement créer des modèles très précis et uniformes sur leurs substrats. Sa puissante machine laser est équipée de plusieurs caractéristiques de sécurité et est capable d'atteindre des débits élevés tout en fournissant la résolution la plus élevée possible.