Occasion VERTEQ 1600 #9234910 à vendre en France
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ID: 9234910
Taille de la plaquette: 6"
Spin Rinse Dryer (SRD), 6"
DI Water
Wafer washer.
L'équipement de photorésistance VERTEQ 1600 est un outil avancé utilisé pour éliminer les motifs dans une photorésist à partir d'un photomasque. Doté d'une précision d'exposition et d'une répétabilité supérieures, ce système est le choix idéal pour la fabrication de semi-conducteurs et d'autres applications de microfabrication. 1600 utilise un train optique breveté avec une conception à champ plat qui élimine la plupart des aberrations, ce qui donne des capacités d'imagerie extrêmement précises. Un oscillateur numérique d'asservissement intégré, une unité de rétroaction dynamique de l'autocollimateur et un miroir asservi en diagonale interne permettent d'obtenir des caractéristiques inégalées comme une haute précision et une exposition répétable, ainsi qu'un alignement rapide et facile. Avec cette machine, il est possible d'atteindre une résolution inférieure à 5,0 nanomètres sur un grand champ de vision. L'outil dispose d'une interface utilisateur intuitive avec un écran tactile facile à utiliser pour le fonctionnement. Les autres caractéristiques comprennent les rapports imprimés, l'actif de journal et la programmabilité de l'utilisateur. De plus, une architecture ouverte permet une intégration et une expansion rapides du modèle. En outre, plusieurs accessoires optionnels peuvent être ajoutés à la configuration par défaut de VERTEQ 1600. 1600 est équipé d'un processeur intégré puissant et polyvalent avec des algorithmes améliorés. Ce processeur assure une exposition rapide et précise des substrats, et permet également de calibrer l'équipement pour utiliser plusieurs types de photomasques par des réglages réglables par l'utilisateur. D'autres caractéristiques telles que la compensation de substrat, l'exposition entourée et le carré de bord améliorent encore la précision. Le système est compatible avec les substrats standards, y compris le quartz, le quartz/soude, le verre et les fichiers de silice fondus. Il fonctionne également avec un certain nombre de types de photomasques différents, tels que DMD, chrome et oxyde de chrome. En conclusion, l'unité photorésist VERTEQ 1600 offre une précision et une répétabilité supérieures, ce qui en fait un excellent choix pour les applications de microfabrication de haute précision. La machine est soutenue par une interface utilisateur intuitive, un processeur intégré polyvalent et des accessoires optionnels, offrant ainsi un bon rapport qualité-prix.
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