Occasion VERTEQ 1600 #9245627 à vendre en France

VERTEQ 1600 est un équipement de photorésistance de précision qui permet un contrôle total et la précision dans le processus de lithographie. Ce système est le meilleur choix pour les applications nécessitant une haute résolution, où les difficultés d'enregistrement doivent être minimisées. 1600 dispose d'un bras de manipulation articulateur à 6 axes de haute précision et d'un module de rotation à 5 axes, permettant une flexibilité maximale dans la manipulation des substrats. En outre, VERTEQ 1600 dispose d'une « plaque supérieure » en attente de brevet qui se déplace pour rencontrer le substrat, permettant à l'unité de choisir rapidement le substrat sans aucun contact. Ce processus délicat combiné aux substrats et à la plaque de fond placés avec précision permet un enregistrement et un contrôle précis tout au long du processus. 1600 supporte des diamètres de 4 pouces et 6 pouces, offrant ainsi une grande précision sur les substrats standard et non standard. La machine offre également des fonctions de contrôle de processus définies par l'utilisateur et d'imagerie haute résolution, qui sont spécifiquement configurées pour les processus au niveau des plaquettes, y compris le spinner photorésist, l'exposition, le développement et le traitement humide. La conception optique avancée et la précision de la longueur d'onde fournissent une imagerie précise pour le processus d'alignement des plaquettes et permettent un fonctionnement fiable. VERTEQ 1600 offre une protection supérieure des substrats contre les poussières environnementales ou les dommages dus à l'outil de captage scellé sous vide. La conception de profil bas de l'actif lui permet de s'adapter à des espaces qui ne permettent généralement pas de solutions à base de ventouse complète. Il est conforme aux derniers protocoles de sécurité et est conçu pour minimiser les émissions nocives. modèle 1600 fournit le plus haut niveau de précision et de répétabilité en lithographie, ce qui en fait le choix optimal pour les applications nécessitant une imagerie précise. Cet équipement de photorésistance est conçu spécifiquement pour répondre aux exigences exigeantes des processus au niveau des plaquettes, tels que la filature de photorésist, l'exposition, le développement et le traitement humide. La conception optique avancée, une protection supérieure et une fiabilité accrue font de ce système l'un des meilleurs sur le marché aujourd'hui. L'unité VERTEQ 1600 est le choix idéal pour les applications de recherche et développement et de production.