Occasion VERTEQ 1800-50 #9383159 à vendre en France

L'équipement de photorésistance VERTEQ 1800-50 est une plate-forme polyvalente et très fiable pour le transfert de motifs et la production de plaquettes. Il est idéal pour la production de divers composants, y compris des dispositifs semi-conducteurs, des écrans et des emballages de composants denses. Le système est équipé d'un certain nombre de caractéristiques et de composants conçus pour maximiser l'efficacité et la précision du processus de photolithographie. Il comprend un convoyeur à grande vitesse entièrement automatisé, avec une plate-forme de chargement et une plate-forme de déchargement. La plate-forme de déchargement utilise un mécanisme assisté par vide pour assurer une action de chargement et de déchargement douce et uniforme. La machine dispose également d'une cassette de masque de chargement supérieur pour assurer le passage rapide et facile du masque. En outre, il est équipé d'une machine de suivi automatique, fournissant un alignement précis des masques sur les plaquettes pour un alignement très précis. La chambre de processus de l'outil est équipée d'un éclairage LED lumineux pour un excellent éclairage, ainsi que d'une étape puissante et d'un atout d'alignement répété pour un positionnement exceptionnellement précis des masques. Un modèle sophistiqué de reconnaissance des motifs permet aux opérateurs d'identifier rapidement les motifs et de les transférer avec précision à la surface de la plaquette. En outre, l'équipement peut être personnalisé pour répondre à des exigences de production spécifiques. Il est équipé d'un logiciel qui permet une exposition chronométrée et un traitement programmable, ainsi que d'un pool de recettes programmables avancées qui prend en charge l'automatisation et la fabrication à grande vitesse. Il est également capable de contrôler et de gérer automatiquement tous les processus impliqués dans le processus d'alignement et d'exposition du masque et fournit une série complète d'outils de diagnostic pour détecter et gérer les erreurs dans le processus d'alignement et d'exposition du masque. Le système est construit sur une conception modulaire qui lui permet de s'adapter rapidement à l'évolution des exigences de fabrication. L'unité utilise des dispositifs de sécurité de pointe pour simuler les conditions utilisées dans le processus de balisage et pour assurer une purification efficace de l'air et un contrôle de la température. De plus, l'épurateur d'air à haut rendement et le dépoussiéreur contribuent à assurer un environnement propre, permettant des lectures d'exposition cohérentes. Dans l'ensemble, la photorésistance 1800-50 est un excellent choix pour les fabricants de semi-conducteurs à la recherche d'une solution polyvalente, fiable et économique. Il est capable de répondre aux exigences les plus strictes en matière de transfert de motifs de précision, tout en fournissant une plate-forme efficace et hautement fiable pour la production de plaquettes.