Occasion VERTEQ 1800-50 #9401930 à vendre en France
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ID: 9401930
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1997
Spin Rinse Dryer (SRD), 8"
Rotor, 4"
Power supply: 120 VAC, 50/60 Hz, 15 A
1997 vintage.
L'équipement de photorésistance VERTEQ 1800-50 est un système d'imagerie et de gravure de pointe conçu pour le contrôle de processus de haute précision dans les applications microélectroniques. Il utilise la technologie des photorésistances pour fabriquer avec précision des couches minces sur des plaquettes semi-conductrices permettant la fabrication de circuits ultra-fins avec plus d'efficacité et de précision. Au cœur de l'unité de photorésistance 1800-50 se trouve un stade réticulaire sophistiqué. Cette étape est exceptionnellement précise, ce qui permet de placer le réticule avec une grande précision par rapport au substrat. Une combinaison de moteurs à axes X, Y et Z, couplés à une machine de codeurs optiques de haute précision, fournissent un ensemble complet de caractéristiques, permettant à l'utilisateur de positionner avec précision le réticule dans un rayon de 0,001 mm, même à travers de grands substrats de plaquettes. L'outil photorésist utilise une variété de procédés sophistiqués pour transférer avec précision les motifs formés sur le réticule à la surface de la plaquette, ainsi que pour graver avec précision les motifs. Premièrement, un état de la lampe au-mercure-xenon d'art de 1.0 kW fournit la source UV exigée exposer le fait de se photoopposer, pendant qu'un Multirayon fait breveter le scanner de DirectView™ garantit l'illumination uniforme exacte du champ reflétant, en fournissant la résolution incomparable et l'uniformité. Les développements post-exposition sont ensuite réalisés à l'aide de développeurs aqueux et organiques spécialement conçus pour maximiser le débit d'imagerie et la compatibilité avec la large gamme de formulations photorésistantes disponibles. La gravure de la résine photosensible modelée est effectuée à l'aide d'un actif propriétaire de gaz de gravure avancés. Ces gaz, combinés à un modèle de gravure spécialisé, construit avec des technologies avancées de pompage sous vide et de purification et contrôlé par un équipement de précision de régulateurs de débit, fournissent une gravure rapide, précise et répétable pour une variété de procédés de fabrication de semi-conducteurs. Le système photorésist VERTEQ 1800-50 est idéal pour la fabrication de circuits à l'échelle de la solution, avec des couches multiples et un rapport d'aspect élevé. La combinaison de capacités avancées d'imagerie, de gravure et de stabilité de l'unité fournie par 1800-50 permet la fabrication d'appareils complexes rapidement et efficacement. Des techniques avancées de diagnostic et de validation des processus garantissent que les paramètres/configurations/substrats sont correctement manipulés, permettant aux utilisateurs de maintenir des rendements de processus toujours élevés.
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