Occasion VERTEQ 1800-6AL #9101489 à vendre en France

VERTEQ 1800-6AL est un équipement de haute performance conçu pour une variété d'applications de photolithographie. Le système dispose de fonctionnalités de conception avancées, y compris un alignement de masque haute résolution, un contrôle automatisé de l'exposition 14 bits avancé et un désembrouillage du masque de balayage ainsi que des capacités expérimentales de réglage automatique de l'exposition en temps réel. L'unité est équipée d'une imagerie à basse température à deux étages, ce qui garantit une imagerie précise avec un faible choc thermique sur l'échantillon. Il est également équipé d'un étage d'échantillonnage qui peut traiter une variété de types d'échantillons, y compris les plaquettes, masques et substrats plastiques. 1800-6AL est une machine numérique utilisée à la fois avec des imageurs numériques (DIA) et des films photorésistants. Son outil d'imagerie basse température offre les meilleures performances d'imagerie avec une haute résolution pour une variété d'applications de masquage numérique. Son contrôle automatisé avancé de 14 bits rend facile et précis le réglage de l'exposition et le contrôle du motif, permettant une imagerie précise avec une distorsion minimale. L'actif est également conçu pour fournir des résultats d'imagerie fiables et reproductibles avec un large éventail d'expositions et de températures. De plus, le modèle est capable d'ajuster l'exposition en temps réel afin d'améliorer la précision de l'imagerie. L'équipement est conçu pour une sécurité maximale de l'opérateur avec des embouts de sécurité et une goulotte de sécurité réglable. La barrière de sécurité éclairée par DEL détermine la hauteur de l'échantillon exposé lorsque l'opérateur traverse la goulotte. De plus, le système dispose d'une gamme de capteurs et d'alarmes pour détecter et contrôler les risques potentiels pour la sécurité lors de l'utilisation de la photolithographie. L'unité permet un alignement précis du masque avec l'utilisation de dispositifs de mesure optiques avancés. L'alignement des masques est essentiel en photolithographie car il assure une réplication précise du motif de l'original à l'échantillon. La machine peut également fournir un contrôle précis du niveau d'exposition, de la vitesse de balayage et du temps d'exposition. Ce contrôle préalable permet d'améliorer la précision du motif et le débit. VERTEQ 1800-6AL est un outil de photorésistance avancé conçu pour diverses applications de lithographie. Ses caractéristiques de conception avancées garantissent une imagerie précise avec une distorsion minimale et une large gamme d'expositions et de températures. Sa commande automatisée 14 bits avancée permettant le réglage de l'exposition et le contrôle de la configuration, le réglage de l'exposition automatique et des fonctions d'alignement de masquage précises, la goulotte de sécurité réglable et les interactions de sécurité intelligentes font de l'actif le choix idéal pour une variété d'applications de masquage numérique.