Occasion VERTEQ 1800-6AL #9255507 à vendre en France

L'équipement de photorésistance VERTEQ 1800-6AL est un système intégré de dépôt de résines et de cuisson post-exposition (PEB) conçu pour les applications de photolithographie. Cette unité dispose d'une livraison de résistance haute performance, ainsi que d'une station de cuisson post-exposition avancée, fournissant des températures et des réglages de temps dédiés pour optimiser la répétabilité des processus. 1800-6AL est conçu avec une configuration verticale qui réduit considérablement l'empreinte et simplifie l'entretien. La machine dispose d'une haute précision, résistant à la corrosion, pompe de refoulement de résistance et venturi sous vide pour assurer un dépôt de résistance lisse et une épaisseur de résistance constante. Une interface utilisateur intuitive fournit un outil facile à utiliser avec jusqu'à douze recettes distinctes, permettant aux utilisateurs de configurer rapidement leurs environnements de résistance désirés. En outre, l'actif est équipé de plaques chaudes et de commandes réglables en température ou en plage de temps. La station de cuisson post-exposition est construite en aluminium pour une stabilité thermique et une uniformité accrue. Il est également équipé d'un plat de résistance chauffé de grande capacité qui aide à maintenir une température de résistance constante tout au long de l'exposition. Le modèle VERTEQ 1800-6AL est bien adapté à une variété d'applications de photolithographie et est conçu en tenant compte de la sécurité des procédés et des opérateurs. Une caractéristique clé de l'équipement est la capacité « sans risque de défaillance » en cas de dysfonctionnements multiples du processus. Cette caractéristique garantit qu'aucun dommage supplémentaire ne peut être causé au système dans ces situations potentiellement dangereuses. L'unité est également conçue pour être entièrement sans entretien, permettant aux utilisateurs de reconnaître une durée de vie prolongée et des coûts d'entretien minimes. En conclusion, 1800-6AL machine photorésist est un choix idéal pour les applications nécessitant une résistance répétable de haute précision à la livraison et des températures de cuisson après exposition uniformes. Il est conçu en tenant compte de la sécurité des processus et des opérateurs et dispose d'une interface utilisateur intuitive et de capacités de sécurité, ce qui fait de cet outil le choix idéal pour les processus de lithographie avancés.