Occasion VERTEQ 1800 #293760299 à vendre en France

VERTEQ 1800 est un équipement de photorésistance qui offre une amélioration de rendement jusqu'à 25 % par rapport aux autres systèmes de projection optique. Il s'agit d'un outil polyvalent à exposition unique qui convient à une gamme de procédés de lithographie fine, y compris le simple et le double tissage. Le système offre une large gamme de grossissement de 5x-80x avec haute résolution et stabilité. Les systèmes de photorésistance de la série 1800 sont dotés d'une optique de projection binaire haute puissance et haute résolution offrant une capacité de taille de 0,165 micron extrêmement efficace. L'exposition est autorisée par jusqu'à neuf sources lumineuses à diodes laser qui fournissent un maximum de 16 mégawatts de puissance UV pour augmenter le débit. L'unité de photorésistance est également capable de techniques d'alignement BCD, die-to-die et wafer-to-wafer. Les modules automatisés VERTEQ 1800 offrent des fonctionnalités d'alignement avancées et une optimisation basée sur les motifs pour améliorer la répétabilité et la précision des processus. La machine fournit une interface multi-utilisateurs automatisée (MUI) qui peut être utilisé pour de multiples opérations et un débit amélioré. En outre, le logiciel prend en charge Reverse Tone Exposure (RTE) pour des distributions précises de courbes analogiques. 1800 dispose également de coupe de tension sur la plaquette pour régler rapidement l'excès de tension sur la plaquette avec un temps d'arrêt minimal. De plus, l'outil est conçu avec plusieurs fentes intelligentes pour surveiller la température, la puissance, la dose et l'alignement des plaquettes. Cette surveillance vigilante de l'environnement garantit la planarisation des plaquettes avec une décantation plus rapide des gouttelettes et une contamination minimale. L'actif est également équipé d'une capacité de superposition géométrique précise dans laquelle le micro-module peut détecter le motif et les aligner dans la position exacte même lorsque la majorité de la zone est déformée. En outre, la technologie intégrée MEMS scanner dans le modèle photorésist assure aucun temps de bouclage-retard et sa vitesse de balayage large jusqu'à 400 millimètres par seconde assure une couverture uniforme. Dans l'ensemble, l'équipement de photorésistance VERTEQ 1800 offre des caractéristiques telles que la stabilité optimisée, l'amélioration du rendement, l'interface automatique et la haute résolution par rapport aux systèmes traditionnels. Cela fait du système photorésist le choix idéal pour produire des applications de lithographie en ligne fine.