Occasion VERTEQ ST800-41L #9157379 à vendre en France

VERTEQ ST800-41L est un équipement photorésist performant et peu coûteux conçu spécifiquement pour les procédés de fabrication de microélectroniques. Le système utilise une combinaison de la lumière UV avancée, l'optique, et des processus photochimiques pour créer des masques de précision pour la fixation sur la surface du substrat. Ce type de photorésist est constitué d'une source de lumière ultraviolette, d'optiques focalisant la lumière sur la surface du substrat, et d'une méthode d'interaction chimique entre la lumière UV et le matériau du substrat. La lumière UV avancée du ST800-41 L provient de l'une des lampes à arc SCR ManLab les plus fiables, robustes et durables disponibles. Cette lumière est concentrée optiquement à travers une machine de focalisation optique avancée qui est conçue spécifiquement pour le processus de lithographie UV. Cet outil de focalisation garantit que la taille du champ d'exposition sera exacte et cohérente, créant des motifs précis sur la surface du substrat. ST800-41L est également livré avec un contrôleur PLC intégré pour un fonctionnement facile. Grâce au contrôleur, les utilisateurs peuvent surveiller avec précision les niveaux d'intensité lumineuse pendant le processus d'exposition, ainsi que maintenir la période d'exposition correcte. En outre, l'actif est équipé de dispositifs de sécurité pour la prévention des accidents et des incidents imprévus. Le modèle photorésist offre également une fonction de dépôt auto-masque réglable, permettant aux utilisateurs de contrôler la quantité de résistance appliquée au substrat. Le dépôt auto-masque est important pour assurer l'uniformité de la couche de résine dans la zone d'application et peut même être utilisé pour fabriquer plusieurs masques dans le même processus. VERTEQ ST800-41L est une solution avancée et rentable pour les procédés de fabrication de microélectroniques. Les composants combinés dans l'équipement permettent une lithographie précise et précise, et le contrôleur PLC intégré permet un fonctionnement rapide et facile. De plus, le système de dépôt auto-masque réglable permet aux utilisateurs de contrôler avec précision le processus de demande de résistance pour obtenir des résultats précis et uniformes.