Occasion WERNER MATHIS LFT #9069946 à vendre en France

WERNER MATHIS LFT est un type de système photorésist utilisé dans la fabrication de dispositifs microélectroniques. Il est basé sur une structure sandwich constituée de deux couches : une couche de photorésist négatif de polymères benzotriazoles et une couche de LFT (alias Latent Functional Thickness) sensibilisée à l'acide. Cette combinaison sert de passerelle entre la couche de photorésist sous-jacente et la surface de la plaquette. Lorsqu'elle est exposée à la lumière UV, la couche de WERNER MATHIS LFT sensibilisée à l'acide réagit en formant un film visqueux qui sert de masque à la résine photosensible ci-dessous. Lorsque la lumière UV est appliquée sur la plaquette à travers le photomasque, des zones sélectivement réactives de la couche de photorésist peuvent être exposées ou recouvertes selon l'intensité de la lumière. La position du photomasque est alors ajustée pour bien caler chaque couche du dispositif sur la plaquette. Une fois soumis à un procédé de mise au point et de cuisson, le photorésist de polymère forme à la surface de la plaquette une couche mince analogue au motif d'abord formé sur la couche sensible à la lumière. Une fois la résine photosensible exposée et durcie, une mince couche de LFT sensibilisée à l'acide reste derrière. Ceci sert de « grille » de protection entre la résine photosensible et la surface de la plaquette. Cette négligence absolue vis-à-vis des couches sous-jacentes assure un calage précis des éléments du dispositif. En conséquence, ce système photorésist a trouvé son application dans une grande variété d'industries, notamment dans des domaines liés à la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Par rapport aux autres systèmes photorésistants, les systèmes WERNER MATHIS LFT offrent une résolution et une robustesse supérieures. L'utilisation de combinaisons spécifiques de LFT et de polymères permet également une bonne adhérence entre la photorésist et le substrat. De plus, en raison de la vitesse relative du processus de développement, les systèmes photorésistants WERNER MATHIS LFT sont en mesure de modeler avec précision des lots de plaquettes de grand volume en peu de temps. Dans l'ensemble, les systèmes photorésist LFT sont une solution idéale pour une large gamme d'applications de fabrication de dispositifs électroniques. La combinaison de WERNER MATHIS LFT sensibilisé à l'acide et de polymères techniquement avancés offre une excellente résolution, une bonne adhérence et un processus de développement rapide - qui en font un système de photorésistance idéal pour une gamme d'industries traitant de la fabrication de dispositifs microélectroniques.