Occasion YASUI SEIKI Mini-Labo #9056723 à vendre en France

YASUI SEIKI Mini-Labo est un équipement de photorésistance avancé conçu pour l'imagerie rapide et précise d'images 3D sur une variété de substrats. Le système utilise un scanner laser qui génère directement des images 3D, qui peuvent être traitées rapidement et avec précision. Cette unité offre des programmes d'exposition flexibles tels que l'exposition normale à la lumière et l'exposition multiplateforme, avec un contrôle fin sur la durée et l'intensité de l'exposition. La machine dispose également de fonctionnalités intégrées et automatisées telles que la purge, le nettoyage, le nivellement multi-tons et le durcissement automatique. Mini-Labo convient à une variété de matériaux, y compris la résine, le polystyrène, les films laser et les substrats céramiques. Il offre également un rendu d'image efficace sur ces substrats 3D sans avoir besoin de multiples passages du scanner laser. Cela permet un traitement plus rapide des images photorésistantes. Les capacités d'imagerie rapide de l'outil permettent également un prototypage de haute précision et des cycles d'itération rapide pour le développement de produits. YASUI SEIKI Mini-Labo est équipé d'un puissant actif informatique qui peut être mis à niveau au besoin pour des applications plus exigeantes. Le modèle peut stocker jusqu'à 4 Go d'images, permettant à l'utilisateur d'accéder rapidement aux images stockées. En outre, Mini-Labo a une configuration d'appareil flexible et supporte une large gamme de résolutions d'impression de 0,04 mm à 0,5 mm, avec une résolution maximale de 0,02 mm. YASUI SEIKI Mini-Labo est une solution idéale pour ceux qui recherchent un équipement photorésist rapide et précis. Il est très convivial et dispose d'une interface intuitive homme-machine, permettant un fonctionnement facile. Avec ses programmes d'exposition flexibles, son système informatique puissant et ses capacités d'impression d'images haute résolution, Mini-Labo est un excellent choix pour ceux qui recherchent une photorésist avancée.