Occasion YSYSTEM Ywafer G54-R visnir #293627975 à vendre en France

YSYSTEM Ywafer G54-R visnir est un équipement de photorésistance conçu pour des applications d'imagerie ultra haute résolution. Il utilise des capacités d'imagerie de pointe pour atteindre les plus hauts niveaux de résolution, de précision, de cohérence et de qualité d'image. Ce système est basé sur l'unité d'éclairage Visnir et intègre le substrat Ywafer pour fournir d'excellentes performances en lithographie. La machine offre une résolution de manutention supérieure, permettant la fabrication de motifs extrêmement complexes avec une distorsion minimale. L'outil Ywafer G54-R visnir utilise de multiples lentilles, combinées à un actif d'éclairage avancé et un traitement de surface avancé pour créer une couche photorésistante optimisée sur le substrat. Le procédé comprend l'application d'un agent de traitement spécial sur la surface de la plaquette, suivi d'un prétraitement pour améliorer la mouillabilité. L'agent de traitement aide à assurer l'homogénéité de la surface et empêche la formation de tout motif non uniforme. L'étape de pré-traitement permet d'améliorer l'adhésion de la résine photosensible au substrat. Le modèle photorésist utilise un outil d'exposition optique haute résolution pour permettre l'exposition de motifs extrêmement compliqués avec un minimum d'imprécisions. Le procédé utilise un faisceau lumineux focalisé pour exposer la résine photosensible sur la plaquette afin de créer les motifs désirés. L'outil d'exposition est ajusté pour obtenir une exposition uniforme sur la surface de la plaquette. L'outil d'exposition utilise également des foyers et des ouvertures variables pour s'assurer que toutes les zones d'exposition sont optimisées. Avec l'équipement YSYSTEM Ywafer G54-R visnir, une étape de développement haute résolution est ensuite effectuée pour activer l'image latente créée par le processus d'exposition. L'étape du développeur est faite pour réduire le temps d'exposition et assurer la résolution la plus élevée possible. Enfin, la résistance est après exposition cuite pour compléter le processus de lithographie. Le système de photorésistance visnir Ywafer G54-R est bien adapté à diverses applications d'imagerie, y compris les systèmes micro-fluidiques et l'imagerie médicale. Ses excellentes performances et sa capacité à produire des images haute résolution en ont fait un choix idéal pour de nombreuses industries.