Occasion YSYSTEM Ywafer mapper GS2 #293627974 à vendre en France

YSYSTEM Ywafer mapper GS2 est un équipement de photorésistance conçu par YSYSTEM. Il est conçu pour l'alignement de précision et l'exposition de motifs photorésistants en couches minces sur des substrats de grande surface. Ywafer mapper GS2 est un système d'évaluation micro-contrôlé avec des capacités avancées, offrant une grande stabilité et des performances inégalées. YSYSTEM Ywafer mapper GS2 est une unité de photolithographie à la pointe de la technologie qui permet la production de motifs photorésistants de haute qualité avec une grande précision et précision. Il dispose d'une méthode d'alignement avancée avec une machine de positionnement à diode laser qui permet un alignement précis sur des substrats de toute taille. L'outil est livré avec un cadre de plaquette qui est capable de tenir jusqu'à quatre plaquettes de taille jusqu'à 200mm. La table statique assure une exposition stable et faible aux vibrations des photorésistants sur les substrats. L'ensemble optique de Ywafer mapper GS2 se compose d'une lentille d'imagerie haute résolution et d'un atout obturateur. Le modèle d'obturateur permet l'exposition du motif photorésist sur la plaquette avec un temps d'exposition rapide de ≤1ms. Le temps d'exposition est très réglable et permet une exposition à un large éventail de niveaux d'intensité. YSYSTEM Ywafer mapper GS2 utilise une chambre d'exposition entièrement fermée contrôlée par ordinateur avec un équipement de chauffage à 4 zones pour contrôler l'environnement d'exposition. Le système de régulation de température avancé utilise des thermocouples pour assurer un environnement d'exposition homogène et une exposition uniforme des motifs photorésistes sur toute la zone de la plaquette. Le contrôleur intégré de l'unité permet un fonctionnement facile et des capacités d'imagerie puissantes. Le contrôleur est équipé d'une machine de gestion de données web pour une configuration facile des paramètres de l'outil et pour le traitement des données d'exposition. Ywafer mapper GS2 est un actif de photolithographie efficace et fiable qui fournit l'exposition de précision des photorésistes sur les substrats de grande surface avec une haute résolution. Les fonctions de contrôle avancées telles que le modèle de positionnement de la diode laser, l'équipement d'obturation et le système de chauffage à 4 zones assurent une exposition uniforme et de haute qualité des photorésistants.