Occasion YUASA LPD-182 #293748586 à vendre en France

YUASA LPD-182 est un équipement photorésist de haute qualité principalement utilisé pour les technologies de plaquettes telles que la microélectronique, les biotechnologies et la photolithographie. Il est composé de trois composants : une photorésist de qualité lithographique, une solution de bande de résiste et une solution de développement/dissolution. La solution de bande de résiste est conçue pour éliminer les contaminants de surface, tandis que la solution de révélateur/dissolution élimine la photorésist et les sous-produits indésirables. LPD-182 système photorésist est très fiable en raison de sa méthode de lithographie à faible kV et de sa basse température, wafers de haute qualité. La courte longueur d'onde de l'unité de photorésistance lui permet de créer des caractéristiques qui peuvent être facilement résolues et modelées sur des substrats. Cette machine est particulièrement efficace pour générer des caractéristiques de grande qualité à petite échelle de l'ordre de 1 à 5 microns, ce qui la rend idéale pour les applications microélectroniques. En outre, en raison de sa basse température et de sa méthode de lithographie à bas kV, l'outil YUASA LPD-182 ne nécessite pas de litho-gravure, économie de temps, d'énergie et de coût. LPD-182 actif photorésist fournit un débit élevé, la propreté, l'uniformité, et l'amélioration de la photosensibilité. De plus, le modèle permet une mise en forme plus facile sur la surface du substrat avec sa méthode de lithographie à faible kV et permet une plus grande flexibilité du procédé. La solution de bande de résiste facilite même le nettoyage de surface, éliminant les contaminants organiques de surface sur les plaquettes de verre et de silicium. La plaquette est ensuite pré-cuite pour éliminer les contaminants résiduels et préparer la surface pour le brasage. La distribution de photorésist se fait alors via une machine de distribution. Elle commence par la distribution d'une très faible quantité de photorésist de qualité lithographique sur le substrat. Pour ce faire, on met la tête de distribution en contact avec le substrat puis on la déplace rapidement tout en maintenant un contact constant. Ce procédé de distribution minimise la quantité de résine photosensible revêtant la plaquette et réduit ainsi la non-uniformité des motifs. Le substrat est alors exposé à une source lumineuse qui déclenche la réticulation des molécules photorésistantes. Les photons recueillis provoquent une augmentation de l'énergie des molécules photorésistantes qui affaiblissent leurs liaisons et leur permettent de se réticuler. Cette réticulation est également renforcée par une rotation alternée du substrat. Après exposition, le substrat est ensuite lavé avec la solution révélatrice/dissolution. La solution révélatrice/dissolution élimine la photorésist, ainsi que tout autre sous-produit indésirable. L'étape de détente utilisée dans les équipements de photorésistance YUASA LPD-182 améliore également l'adhérence entre le substrat et la photorésist. Enfin, la post-cuisson est utilisée pour assurer un durcissement supplémentaire de la résine photosensible. La température cuisante de système LPD-182 peut être réglée selon les caractéristiques désirées du dessin. Les lignes verticales, les arêtes vives et le rendement élevé obtenu de l'unité YUASA LPD-182 en font une machine photorésistante très recherchée pour les applications microélectroniques.