Occasion YUASA LPD-182 #293758571 à vendre en France

YUASA LPD-182 est un type d'équipement de photorésistance utilisé dans la production de composants microélectroniques. Il s'agit d'un système photorésist haute performance utilisé dans le processus de fabrication de dispositifs microélectroniques. L'appareil est adapté au cycle de vie du dispositif microélectronique, du prototype précoce à la production complète. LPD-182 machine est basée sur l'utilisation d'un polymère composé chimique, connu sous le nom de photorésist, qui subit une réaction chimique après exposition à la lumière. Le revêtement photorésist est appliqué sur le substrat et exposé à un motif précis de lumière, généralement à partir d'un masque ou d'un faisceau laser à balayage. Les régions qui reçoivent la lumière deviennent solubles et peuvent être lavées pour définir les motifs précis en cours de création. Les propriétés du matériau photorésistant utilisé dans l'outil YUASA LPD-182 sont conçues pour optimiser la production de composants à motifs fins. LPD-182 convient à l'utilisation de processus photorésistants positifs et négatifs. Dans le processus positif, les zones exposées sont laissées insolubles et durcies, tandis que les zones non exposées se lavent. Dans le processus négatif, le contraire se produit, les zones exposées devenant solubles et se lavant, tandis que les zones non exposées restent intactes. L'actif YUASA LPD-182 est conçu pour fournir un processus de modélisation haute résolution avec un très haut degré de précision dimensionnelle. Le modèle dispose d'un support complet pour la fixation sur différents substrats, y compris le verre, le silicium semi-conducteur, la céramique et les matériaux semi-métalliques réfractifs. L'équipement permet également l'utilisation de diverses techniques d'exposition, telles que l'exposition étendue et l'exposition laser à balayage. En outre, le système est conçu pour fournir une gamme de réglages de régulation de la température, permettant un contrôle précis de la température du substrat et de la résine photosensible pendant le processus d'exposition. Le temps d'exposition pour l'unité LPD-182 peut aller de 1 milliseconde à plusieurs minutes. En outre, le processus peut marquer avec précision des lignes aussi minces que 0,2 μ m et des motifs plus larges jusqu'à 500 μ m. La machine est également conçue pour obtenir des résultats précis à travers des centaines de cycles ou d'expositions, fournissant un processus fiable et répétable pour produire des composants microélectroniques.