Occasion ZEISS A20 #9245012 à vendre en France

Fabricant
ZEISS
Modèle
A20
ID: 9245012
AR Coater system Thermal source (I Model) Mark 11 Ion source (4) Sector plates.
L'équipement de photorésistance ZEISS A20 est un système semi-automatisé conçu pour faciliter le développement de photorésist pour la microfabrication. Il est doté d'un design intégré unique qui permet un contrôle automatisé précis de l'exposition à la lumière et d'une unité laser CO2 intégrée qui fournit une exposition à haute résolution des substrats photorésistants. La photorésistance A20 est construite en acier inoxydable et présente un design ergonomique avec un écran tactile intégré, permettant un contrôle automatisé précis des paramètres d'exposition. Il offre une exposition en une seule étape et en plusieurs étapes, et dispose d'un traitement du signal numérique à deux étages (DSP) qui fournit un niveau d'exposition très précis. De plus, l'outil permet un contrôle précis de la taille du spot, de la polarisation/orientation du faisceau, de la vitesse et de l'intensité de l'obturateur. Pour une exposition en une seule étape, ZEISS A20 photoresist actif utilise jusqu'à cinq sources laser CO2 qui sont contrôlés et réglés par l'interface d'écran tactile. Lors d'une exposition en plusieurs étapes, le modèle comprend un contrôleur programmable qui est utilisé pour ajuster les profils du cycle d'exposition. Le laser CO2 de l'équipement fournit une exposition à haute résolution des substrats photorésistants, avec un taux de photo élevé même à des tensions plus basses, et le laser ultra-mince fournissant des expositions encore plus précises et dirigées. La précision et la précision du processus de photo-lithographie sont également améliorées, car le substrat est automatiquement aligné pour chaque exposition, assurant un enregistrement précis. Le système photorésist A20 comprend également une station de nettoyage automatique pour le traitement de surface du substrat et une salle de nettoyage pour le processus de revêtement photorésist. La salle blanche est remplie d'azote pour assurer la stabilité dimensionnelle de la résine photosensible sur le substrat. L'unité photorésistante ZEISS A20 fournit une technologie de microfabrication de pointe, ce qui la rend idéale pour une grande variété de domaines d'application, y compris l'optoélectronique avancée, la microfluidique et les dispositifs biomédicaux.
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