Occasion ZEISS A20 #9259775 à vendre en France

ZEISS A20 Photoresist Equipment est une machine de lithographie modulaire à haute performance utilisée pour des applications de photolithographie à nano-échelle. Il est idéal pour la production de circuits électroniques haute densité (HDI) et de puces mémoire ainsi que pour la recherche de matériaux avancés. A20 est capable d'imager des caractéristiques de taille inférieure à 12 nm avec résolution, capture et précision, ce qui en fait l'un des systèmes de photolithographie haut de gamme avec les spécifications de qualité les plus élevées. L'unité ZEISS A20 est équipée d'une optique d'imagerie avancée et d'un générateur de micro-motifs pour les images à haute résolution. La machine comprend un outil d'alignement fin à exposition directe (DFFA) et une zone d'exposition sous vide capable d'imagerie continue sur des plaquettes de 6 « et d'autres substrats jusqu'à 15 » de diamètre. L'outil de contrôle automatisé offre une répétabilité élevée et des temps de cycle améliorés, avec un chargement et un déchargement automatisés des plaquettes. En outre, l'interface utilisateur intuitive rend le modèle facile à utiliser pour tous les utilisateurs. Cet équipement est équipé de nombreuses caractéristiques conçues pour augmenter la précision et la précision de la production, comprenant un méta-étage pour l'alignement fin de la plaquette sur le substrat, un système automatisé de reconnaissance des fonctionnalités qui aide à minimiser la distorsion des motifs, et un microscope de comparaison haute performance avec une unité de métrologie embarquée qui affiche des informations de position, d'orientation, de taille et de forme avec de faibles niveaux de bruit. La machine est également capable de numériser les méta-étages, ce qui permet aux utilisateurs d'inspecter rapidement plusieurs endroits pour obtenir des résultats d'imagerie optimaux. L'outil A20 a la flexibilité d'utiliser une variété de formulations de résistance, ainsi qu'un large éventail de chimie de processus. Il est également capable d'exécuter plusieurs étapes de processus telles que le revêtement de spin, la cuisson à pâte molle, la pré-imagerie et la post-imagerie, qui peuvent tous être automatisés avec des systèmes logiciels de pointe. De plus, l'actif possède une vaste gamme de sources d'exposition, y compris le fluorure d'argon, le fluorure de krypton et les sources laser YAG. Dans l'ensemble, ZEISS A20 Photoresist Model est un équipement de photolithographie avancé qui fournit aux utilisateurs les images de la plus haute résolution et la précision pour un micro-tissage extrêmement précis. Il possède un large éventail de caractéristiques, y compris l'imagerie directe et la capture de fonctionnalités, le revêtement de résistance automatisé, la microscopie de comparaison automatisée et la métrologie embarquée. Il est également capable de présenter des caractéristiques d'imagerie sur des plaquettes de 6 pouces et des substrats de plus grande taille et est conçu pour une variété de formulations de résistance et de procédés chimiques, ce qui en fait un outil puissant et polyvalent pour une variété d'expériences de lithographie avancées.