Occasion ZEISS B12 #9245011 à vendre en France

L'équipement de photorésistance ZEISS B12 est une solution de pointe pour les photomasques intégrés et est conçu pour la production rapide et rentable de motifs à haute résolution pour la lithographie. Le cœur du système est le coussin Invesresit de style européen ZEISS B-12, capable de manipuler des plaquettes jusqu'à 350 mm. Le revêtement utilise un contrôle en boucle fermée de la pression, de la température et de la vitesse des couches pour garantir des résultats précis et reproductibles. L'outil sous vide intégré de l'unité est utilisé pour obtenir un environnement à faible contrainte pendant le processus de transfert de motifs, ce qui améliore l'adhérence et la fidélité des motifs. La photorésistance B12 comprend également un outil d'automatisation avancé qui augmente le débit et permet le traitement simultané de plusieurs plaquettes. L'actif est équipé d'un modèle d'alignement laser double, qui positionne avec précision les plaquettes sur le revêtement. Le chargement assisté par robot et l'équipement automatisé de récupération de cassettes améliorent encore l'efficacité de la production. Les plaquettes sont ensuite enrobées et alignées avec la bonne résine photosensible à l'aide de l'échange automatisé intégré de substrat. Le système dispose d'une interface conviviale qui simplifie le processus de prédéfinition à l'achèvement. Un écran graphique orienté recette fournit des informations en temps réel sur le processus et permet aux utilisateurs d'ajuster rapidement les paramètres pour améliorer les performances. L'unité comprend également des protocoles intégrés d'assurance de la qualité et soutient la collecte de données et la gestion des processus afin d'assurer des résultats répétables de haute qualité à chaque fois. La machine de photorésistance B-12 est conçue pour répondre aux exigences de la production lithographique et est idéale pour une utilisation dans les disciplines semi-conductrices, photovoltaïques, optoélectroniques et autres qui nécessitent les plus hautes performances. L'outil offre les avantages de la vitesse, de la cohérence, de la fiabilité et du rapport coût-efficacité, qui sont tous requis pour la fabrication de précision des photomasques.