Occasion ZEISS B12 #9245013 à vendre en France

ZEISS B12 est un équipement de photorésistance de pointe conçu pour les applications de nanofabrication. Il est capable de résister rapidement, avec précision et fiabilité, au dépôt et à l'immobilisation des couches. Le système utilise une combinaison de faisceau d'électrons et de technologie laser pour obtenir une résolution lithographique de moins de 50 nanomètres et des routines de fabrication sans masque les plus élevées possibles. ZEISS B-12 comprend une colonne de faisceau d'électrons, une piste à vide élevé, une conformation automatisée de résistance et une unité de recette intégrée. Le faisceau d'électrons, étant une source d'imagerie, est utilisé pour exposer la couche de résiste et la piste à vide élevé est utilisée pour déplacer le substrat. La recette intégrée garantit que les paramètres d'énergie, de dose et de faisceau souhaités peuvent être pré-programmés pour assurer des résultats reproductibles. De plus, pour garantir la résolution la plus élevée pour le traitement, la machine utilise un puissant algorithme de correction de contrôle de rétroaction qui corrige la focalisation et la dérive pendant le processus d'exposition. Des couches de résines B12 peuvent être utilisées pour diverses applications telles que les nanocontaines, les nanostructures, les nanoparticules et les nanomatériaux. En outre, l'outil peut être utilisé dans différents modes pour différentes applications telles que par lots, multi-niveaux, multi-points et haut débit. L'étage de substrat de B-12 est également capable de manipuler des substrats arbitraires tels que des plaquettes, des lames de verre et des substrats gravés compatibles avec le vide. En outre, ZEISS B12 a une sensibilité élevée et peut être utilisé sur une large gamme de niveaux de dose, ce qui le rend capable d'imprimer de très petites caractéristiques. Cela rend ZEISS B-12 idéal pour des applications telles que les points quantiques, les MEM haute densité, les capteurs et les nanomètres biomédicaux. De plus, la couche de résine formée par B12 s'est avérée très stable, ce qui la rend apte à un stockage et une réutilisation à long terme. En conclusion, le B-12 est un actif photorésistant puissant et fiable conçu pour des applications de nanofabrication de haute précision. Il utilise une combinaison de faisceau d'ions et de technologie laser pour produire des motifs de haute résolution et offre de multiples substrats et modes d'exposition. Le modèle de recette intégré garantit des résultats reproductibles et un puissant algorithme de contrôle de la rétroaction corrige la focalisation et la dérive pendant le processus d'exposition. De plus, la couche de résistance formée par ZEISS B12 s'est avérée très stable, ce qui la rend idéale pour le stockage et la réutilisation à long terme.