Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #117307 à vendre en France

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ID: 117307
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2001
Barrier / seed, 8" wafers (SNNF) SMIF CH A – Pass through CH B – Cool Down CH C – Pre-Clean IIe ceramic CH D – Pre-Clean IIe ceramic CH E – Orient / Degas CH F – Orient / Degas CH 1 – PVD SIP Ta Wide Body with shutter 2x Pinnacle Comdel 600S SLT ESC Backside Ar CH 4 – PVD SIP Cu Wide Body with shutter 2x Pinnacle Comdel 600S SZB ESC Backside Ar Active Thermal Science Chiller Heat Exchanger - Neslab Wide Body load locks Transfer chamber robot – VHP Buffer chamber robot – HP+ Synergy V452 SBC Enhanced CTI Fast regen cryo pumps CTI 9600 cryo compressors 2001 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor (également connu sous le nom de AMAT ENDURA Reactor) est un équipement industriel à grande échelle conçu pour l'industrie des semi-conducteurs. Le réacteur est utilisé pour des procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et est généralement utilisé pour déposer des couches minces de silicium, de carbone diamant (DLC) et de nitrure sur des substrats. MATÉRIAUX APPLIQUÉS ENDURA Reactor est un réacteur CVD haute température et haute pression capable de surveiller et de contrôler les paramètres de processus requis pour un dépôt cohérent et fiable de couches minces. Il est équipé d'une chambre de chauffage et d'un suscepteur chauffé et est compatible avec une large gamme de gaz et de matériaux réactifs. Le réacteur dispose également d'une gamme de contrôles de procédé avancés, y compris un contrôle précis de la température de dépôt, une détection et une régulation de la pression, et un contrôle du débit. Le réacteur ENDURA est largement utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour la fabrication de circuits électroniques, de micro-structures, de composants MEMS et d'autres applications. Il est conçu pour le dépôt rapide et efficace de matériaux de couche et dispose d'une excellente uniformité de température et répétabilité pour un dépôt très précis et reproductible. AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor est également conçu pour réduire les temps de processus, minimiser les erreurs et maximiser le débit. Le réacteur est composé de deux composants principaux : la chambre de procédé et le contrôleur. La chambre de procédé est en quartz, en aluminium ou en acier inoxydable et abrite l'élément chauffant, le suscepteur et tous les capteurs et vannes nécessaires. C'est également la zone où le processus de dépôt a effectivement lieu. Le contrôleur est un système informatisé avancé qui comprend le logiciel et le matériel nécessaires pour réguler le réacteur et optimiser les paramètres du processus. AMAT ENDURA Reactor offre aux ingénieurs de procédé et aux opérateurs un contrôle total sur l'ensemble du processus de dépôt. Il peut être utilisé avec un large éventail de matériaux, y compris le dioxyde de silicium, le nitrure et le carbone diamant. Le réacteur a également une répartition de température très uniforme, un contrôle de pression précis et des niveaux d'impuretés extrêmement bas. En plus de ses capacités de contrôle de processus, APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor est conçu pour offrir des taux de dépôt rapides et cohérents. Il comprend également des pièces résistantes à l'usure et des caractéristiques qui réduisent le bruit et les niveaux de particules pour un environnement de dépôt plus propre. Dans l'ensemble, ENDURA Reactor est un équipement industriel avancé conçu pour l'industrie des semi-conducteurs. Le réacteur est utilisé pour les procédés CVD et peut être utilisé pour déposer des couches minces de silicium, de carbone diamant et de nitrure sur des substrats. AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA offre un contrôle précis des procédés et des taux de dépôt rapides ainsi que des niveaux de bruit et de particules faibles pour un environnement de dépôt plus propre.
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