Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #293618286 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA
ID: 293618286
System, parts machine VHP Robot Missing parts.
AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor (AMAT ENDURA) est un équipement de dépôt physique en phase vapeur (PVD) spécialement conçu pour le dépôt de films métalliques sur des substrats. Ce système PVD est adapté à une variété de matériaux, y compris les plaquettes de silicium, le verre, les métaux et les polymères. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur ENDURA est capable de déposer des films de 1 à 200 nanomètres d'épaisseur. Il peut être utilisé pour déposer une variété de métaux, y compris l'aluminium, l'or, le molybdène, le tungstène, le nickel et le titane, ainsi que divers alliages. L'unité utilise une chambre à vide ultra-haute pour créer une source de matière presque parfaitement pure dans laquelle les métaux vont se sublimer puis se déposer sur le substrat. La chambre à vide ultra-haute est maintenue à une pression de base de 5x10-7 torr. Le gaz est introduit dans la chambre qui est traversée par un réchauffeur de zone chaude, ce qui provoque la séparation des molécules de gaz en atomes. Ces atomes sont ionisés à l'aide d'une source de plasma, puis dirigés à travers le substrat par un champ électromagnétique. Lorsque les ions frappent le substrat, ils s'agrégent et forment des couches du film métallique désiré sur la surface. La machine est également équipée d'une pompe turbomoléculaire qui maintient le vide élevé dans la chambre, offrant un environnement optimal pour le processus de dépôt. Un aimant de Foucault peut être utilisé pour filtrer des particules susceptibles d'altérer la pureté et la qualité du matériau déposé. Le réacteur est également équipé d'interféromètres laser et de divers systèmes de diagnostic de processus, ainsi que d'une suite complète de logiciels permettant un contrôle précis des paramètres de dépôt. Le réacteur ENDURA est un outil PVD puissant et précis qui convient parfaitement pour le dépôt de films métalliques, y compris d'alliages performants, sur une large gamme de substrats. Sa capacité à déposer des films avec un contrôle précis de l'épaisseur et de la composition en fait un outil inestimable pour la fabrication dans de nombreuses industries, de la microélectronique et des semi-conducteurs aux cellules solaires, aux écrans et aux systèmes microélectromécaniques (MEMS).
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