Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9078880 à vendre en France

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ID: 9078880
Taille de la plaquette: 8"
PVD system, 8" (2) Co-Titanium Chamber 101-TiN Chamber Aluminium / 0.5% Cu Chamber Pre-clean II Chamber PVD Style Degas Chamber Flat Align Chamber.
AMAT/AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA est un réacteur de gravure à plasma à semi-conducteur et un système de dépôt. Ce réacteur est utilisé dans le monde entier et est connu pour ses performances et sa fiabilité. C'est un outil convivial et économique pour graver et déposer des films minces. AMAT ENDURA est construit avec deux sous-systèmes distincts, la source de plasma et la chambre de procédé. La source de plasma est un système de pulvérisation magnétron, et la chambre de procédé est un graveur d'ions réactif multi-cathode. Cette combinaison fournit une plate-forme polyvalente de traitement des plaquettes capable d'effectuer une gravure sèche de haute précision et le dépôt de matériaux multiples, ainsi que de permettre des modifications de matériaux avancées et la réparation/soudage de substrats. La chambre de procédé est conçue pour graver et déposer un large éventail de matériaux, des métaux aux polymères. Une caractéristique unique de APPLIED MATERIALS ENDURA est la fourniture de plusieurs chambres de gravure pour la gravure de différentes couches de la plaquette. Ceci permet un meilleur contrôle de la profondeur de gravure et de l'uniformité, permettant la fabrication de structures tridimensionnelles complexes. ENDURA utilise plusieurs sources de gaz pour les étapes de gravure et de dépôt. Pour la gravure, le réacteur peut être utilisé avec des surfaces gazeuses, liquides ou solides utilisant soit l'oxygène/azote, le chlore/fluor, soit la chimie des gaz rares. Cette variété de chimies permet d'optimiser la sélectivité des gravures, assurant ainsi une plus grande stabilité et reproductibilité des structures des dispositifs. MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Les capacités de dépôt d'ENDURA sont tout aussi impressionnantes, comprenant une gamme de procédés à basse température tels que le dépôt de couche atomique, le dépôt chimique en phase vapeur, le dépôt réactif ultraviolet et les procédés assistés par ions. Ceci permet de déposer des films ultra-minces ainsi que des empilements multicouches complexes avec une grande précision. MATÉRIAUX APPLIQUÉS/AMAT ENDURA est ainsi devenu un outil important dans l'industrie de la fabrication de semi-conducteurs, car sa structure multi-sous-système est un excellent exemple de l'intégration des étapes de gravure, de dépôt et autres traitements de plaquettes sur la même plate-forme. Grâce à sa combinaison de capacités de gravure et de dépôt, APPLIED MATERIALS ENDURA est en mesure d'apporter la précision critique et le contrôle nécessaires à la fabrication de dispositifs semi-conducteurs de plus en plus complexes.
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