Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9105850 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA reactor est un réacteur de qualité industrielle utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs. Cet outil de dépôt physique en phase vapeur (PVD) est conçu pour déposer un mince film de matière sur des plaquettes, des puces et d'autres substrats pour diverses applications telles que les circuits, la photonique, les portables et les implants médicaux biomédicaux. Le réacteur AMAT ENDURA utilise une conception brevetée à trois chambres qui permet de multiples dépôts et expositions dans chaque séquence. Il supporte des matériaux de dépôt tels que le cuivre, le tungstène, l'aluminium et les silicures, ainsi que des matériaux de coiffage tels que le titane ou l'aluminium. Grâce à sa précision de contrôle et de répétabilité des processus, cet outil fournit des résultats cohérents et masque la conformité. Avec ses émissions de particules ultra faibles, un compteur de particules n'est pas nécessaire et il y a moins de besoin pour la récupération et le nettoyage des plaquettes, d'où un débit accru par rapport aux autres outils PVD. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur ENDURA dispose également d'un contrôleur flexible qui permet d'ajuster l'environnement de la chambre pour fournir des conditions de dépôt optimales, et d'une fenêtre de pression pour un contrôle rapide de la pression. Cela permet de s'assurer qu'un film mince de haute qualité est déposé. En plus de ses capacités de dépôt, ENDURA est capable de gravure humide et de nettoyage de surface à l'aide de diverses chimies, dont le peroxyde d'hydrogène et le TMAH. Cette capacité de gravure aide à améliorer les performances de certains appareils, comme les MEM et d'autres appareils sensibles aux mauvais résultats de gravure humide. En raison de sa polyvalence, de sa conception robuste et de sa capacité mentale, le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA est largement utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs et d'optoélectroniques. Il permet un dépôt rapide et précis des couches minces, obtient une excellente répétabilité des paramètres du procédé et fournit un bon contrôle du procédé.