Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9166439 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA 5500 PECVD Reactor est un outil puissant pour les scientifiques, ingénieurs et techniciens travaillant dans l'industrie des semi-conducteurs. Le réacteur AMAT ENDURA 5500 fournit le rendement et le débit les plus élevés pour le dépôt chimique en phase vapeur enrichi par plasma (PECVD). MATÉRIAUX APPLIQUÉS L'ENDURA 5500 comporte deux systèmes d'injection de gaz réactifs parallèles placés de part et d'autre du réacteur. Les injecteurs de gaz réactifs sont conçus pour optimiser le mélange gazeux tout en fournissant les flux de gaz réactifs nécessaires. Une pression de travail maximale de 6 bars est disponible, permettant un large éventail de procédés de dépôt. En outre, le réacteur ENDURA 5500 fonctionne dans une plage de pression comprise entre 1 et 6 bars et sur différentes tailles de plaquettes (allant de 50 à 300 mm). En utilisant AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA 5500, les scientifiques et les ingénieurs peuvent personnaliser les paramètres opérationnels de leur processus de dépôt. Le réacteur AMAT ENDURA 5500 offre un excellent contrôle des procédés, permettant aux chercheurs de définir précisément les conditions nécessaires à leur expérience. La température et la pression sont surveillées avec une précision de 0,1 ° K et 0,1 mbars respectivement. Le réacteur a un contrôle fin de la température, permettant un contrôle serré de la température et de l'homogénéité du substrat. De plus, LES MATÉRIAUX APPLIQUÉS ENDURA 5500 offrent une excellente uniformité et répétabilité du processus de dépôt. Pour ce faire, on utilise un générateur de flux performant qui permet de maintenir une répartition uniforme des flux sur la plaquette, en éliminant les variations entre les plaquettes et les procédés. En fournissant une épaisseur de film uniforme et des profils de gravure uniformes, ENDURA 5500 contribue à augmenter le rendement et le débit, réduisant efficacement le temps de traitement. Le Matériel Appliqué AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA 5500 dispose également de capacités de conception et de manutention robustes qui garantissent un traitement fiable et reproductible des substrats et dispositifs de haute précision. Le réacteur est doté d'une chambre basse vibration qui assure un fonctionnement précis et réduit la contamination de l'environnement du procédé. Le réacteur dispose également d'un système de nettoyage automatique intégré, réduisant encore les temps d'arrêt et les risques de contamination. Dans l'ensemble, AMAT ENDURA 5500 est un réacteur puissant et polyvalent qui offre un contrôle supérieur des procédés et une uniformité des procédés de dépôt des semi-conducteurs.