Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9170733 à vendre en France

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ID: 9170733
Taille de la plaquette: 12"
Chamber,12" P4 Compatible Chamber type: XDK SIP Copper: No.
AMAT/APPLIED MATERIALS Le réacteur ENDURA est une chambre de procédé évoluée, polyvalente et à haut rendement, utilisée pour diverses applications de traitement de semi-conducteurs. Le réacteur AMAT ENDURA possède un large éventail de capacités, y compris la gravure, le dépôt, l'oxydation et d'autres traitements. Le principal avantage de APPLIED MATERIALS ENDURA est l'amélioration du débit et de l'uniformité du procédé. La chambre ENDURA est constituée d'un grand récipient cylindrique en acier inoxydable avec une plaque de fond plate et uniforme. Les parois de la cuve sont garnies de quartz ou d'isolants céramiques. A l'intérieur de la chambre, un système multi-chicanes permet d'uniformiser la pression, la température et les gaz de traitement. Les différents composants de l'Endura, y compris les alimentations électriques, les pompes à vide, les systèmes de refroidissement et les systèmes de distribution de gaz, sont montés sur une plate-forme qui fait partie du bouchon. Le système de refroidissement pour AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA utilise un refroidissement liquide, soit de l'eau, soit un mélange propriétaire de glycol, qui circule dans les parois et les parties de la chambre. Ce système de refroidissement maintient la température de la chambre et la protège des fortes charges thermiques générées lors du traitement. En outre, le refroidissement aide à maintenir une répartition thermique plus uniforme pour faciliter une grande uniformité de processus. Un certain nombre de gaz peuvent être utilisés dans le réacteur AMAT ENDURA, y compris des gaz non réactifs et des composants biologiques tels que le tétrachlorure de silicium, le trifluorure d'azote, le dioxyde d'azote et l'ozone. Selon le type de procédé mis en oeuvre, plusieurs gaz peuvent être utilisés simultanément à différentes concentrations et pressions. La chambre est conçue avec une variété de ports qui permettent à la fois l'introduction et l'évacuation des gaz. Les alimentations et autres composants de APPLIED MATERIALS ENDURA sont conçus pour minimiser la consommation d'énergie et la contrainte thermique. Sa conception de générateur RF à couplage capacitif fournit une puissance haute fréquence pour la gravure et le dépôt. Le générateur est monté rigidement sur la chambre, et la commande du générateur RF est accessible à partir d'un panneau de commande électronique, permettant un réglage précis. ENDURA est un outil efficace et polyvalent pour diverses applications de traitement des semi-conducteurs, offrant un meilleur débit, une uniformité et des capacités de gestion thermique améliorées. Il est également facile à utiliser et à entretenir, ce qui en fait un choix idéal pour une utilisation dans les semi-conducteurs et d'autres domaines avancés.
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