Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9175665 à vendre en France

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ID: 9175665
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2007
EXTENSA TTN Chamber, 12" Process: Thinfilm Currently warehoused 2007 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Equipment est un système de dépôt de pointe utilisé pour le dépôt de couches minces dans la production de semi-conducteurs et la recherche avancée sur les matériaux. L'unité est conçue pour offrir des performances supérieures et un temps de disponibilité offrant flexibilité et abordabilité. La description de la machine est la suivante : AMAT ENDURA Tool utilise des outils de dépôt performants pour obtenir un dépôt précis de couches minces sur divers substrats. Utilisant un environnement de pression variable, la chambre fournit un contrôle précis du dépôt de couches minces à une large gamme de températures, ce qui rend cet atout idéal pour une large gamme d'applications de procédé. Le modèle est équipé d'un loadlock efficace, d'une chambre contenant plusieurs sources de dépôt avancées, de systèmes pré et post-recuit, d'une boîte à gaz et d'autres sous-systèmes avancés. Selon l'application, les sources peuvent comprendre une source de faisceau d'électrons, une source de filament chaud ou une source de plasma à courant continu et d'autres sources spécialisées telles qu'une lampe flash. En outre, l'équipement dispose d'une gamme complète de systèmes de surveillance et de contrôle avancés. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le système ENDURA peut être utilisé dans une variété de procédés de fabrication, de la production avancée de semi-conducteurs à l'avancement de matériaux nouveaux et innovants. Pour la production de semi-conducteurs, le dépôt en couches minces peut être utilisé pour traiter les transistors en couches minces, la spintronique et la nanoélectronique, tandis que dans la recherche sur les matériaux avancés, le dépôt peut être utilisé pour créer des dispositifs et des matériaux quantiques complexes, tels que le graphène, le nanotube de carbone et les assemblages de van der Waals. Les matériaux et substrats utilisés dans ces procédés vont des substrats à base de silicium et de germanium aux couches minces diélectriques basses et hautes de k. L'unité est capable de stockage précis, chauffage, refroidissement et contrôle de la concentration, ce qui la rend idéale pour les procédés avancés. En outre, la machine est équipée d'une gamme complète de systèmes de sécurité, contribuant à assurer un fonctionnement fiable et sécurisé. ENDURA Tool allie performances supérieures, dépôt précis de couches minces et flexibilité sans précédent, ce qui en fait une plate-forme de dépôt idéale pour la recherche sur les semi-conducteurs et les matériaux de pointe. L'actif est soutenu par un réseau mondial, offrant soutien et ressources pour aider à assurer une disponibilité continue et une optimisation continue.
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