Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9193023 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA PVD Reactor est un système avancé de dépôt physique en phase vapeur à semi-conducteur (PVD) conçu pour la production des dispositifs les plus difficiles à fabriquer. Il permet un dépôt uniforme du film sans intervention manuelle fréquente et offre un large éventail de possibilités de processus. Le réacteur PVD AMAT ENDURA dispose d'une source couplée inductivement renforcée par plasma et d'une conception unique de la chambre de procédé qui permet un contrôle supérieur de l'épaisseur totale, une uniformité de la chambre et de la cible et un contrôle de forme pour une variété de matériaux, y compris le cuivre et d'autres films métalliques. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur ENDURA est un outil de déchargement unique qui peut traiter une grande variété de tailles et de paquets dans les configurations de lots et de grappes. Il est conçu pour être entièrement automatisé avec du matériel et des logiciels qui permettent une intégration facile des outils d'automatisation d'usine. Cette capacité d'automatisation permet une meilleure qualité et des rendements de production plus efficaces. Le réacteur PVD ENDURA offre une excellente homogénéité de température, une isolation de chambre et une distance cible-wafer pour un contrôle supérieur des particules et une cohérence de processus. Sa capacité matérielle en stock permet d'améliorer la productivité et la qualité, tandis que ses fonctions de maintenance prédictive peuvent faciliter la maintenance proactive et simplifier le fonctionnement global du système. AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor dispose également d'une conception de chambre modulaire, de composants à faible entretien et d'une interface intuitive. AMAT ENDURA Reactor offre une grande évolutivité et flexibilité, grâce à ses multiples options de produits, qui offrent à l'utilisateur final la capacité d'optimiser son processus spécifique. Ce réacteur dispose également d'un large éventail de capacités de procédé, telles que : dépôt multicouche, rapports de pellicules d'aspect élevés, métallisation multi-étapes et isolation améliorée sans gravure induite par le procédé. Toutes ces caractéristiques sont très importantes sur le marché des semi-conducteurs, où des dispositifs complexes doivent être fabriqués avec une précision et une précision extrêmes. Dans l'ensemble, le réacteur PVD ENDURA est un outil fiable, précis et économique pour les environnements de fabrication de semi-conducteurs les plus exigeants. Il offre des performances supérieures avec un dépôt de film uniforme exceptionnel et un excellent contrôle de forme, ce qui en fait un choix idéal pour augmenter la productivité et réduire les temps de cycle. Le réacteur PVD ENDURA est un outil inestimable pour contrôler la fabrication de façon uniforme dans la production des dispositifs microélectroniques les plus complexes et les plus difficiles d'aujourd'hui.