Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9198486 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA
ID: 9198486
Template drilling panel Part number: 0270-04835.
AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA est un réacteur de nouvelle génération à dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) conçu pour permettre la production de matériaux de haute performance utilisés par les technologies IC de pointe. Le réacteur fournit un traitement de substrat de haute précision, y compris le dépôt chimique de dioxyde, et la capacité de déposer des matériaux de faible k. Cela permet aux fabricants de dispositifs de produire de meilleurs dispositifs semi-conducteurs que les méthodes traditionnelles, améliorant les performances et la fiabilité des dispositifs. AMAT ENDURA est un moyen rentable de produire des matériaux semi-conducteurs haute performance, et est capable de jusqu'à 12 roulements de plaquettes par heure. L'ajout de matériaux bas-k à la production est important parce que les matériaux bas-k réduisent les retards de circuit et améliorent les performances électriques. MATÉRIAUX APPLIQUÉS ENDURA est capable de déposer ces matériaux bas k sur un substrat avec un très haut degré de contrôle et de précision, conduisant à des performances électriques améliorées du dispositif grâce à un espacement efficace et uniforme des interconnexions. L'environnement plasmatique dans le réacteur est également utile pour créer des couches plus uniformes, exemptes de vides, permettant des performances plus cohérentes et fiables. La haute précision du processus PECVD contribue également à éliminer la charge électrostatique, qui peut endommager les structures des appareils délicats. ENDURA utilise un bras de transfert poudreuse avancé pour transférer directement des signaux de l'interface d'entrée/sortie (I/O) vers le substrat. Ceci augmente la précision et la vitesse du processus PECVD, et réduit le risque de malentendus des commandes ou d'endommager les structures des dispositifs en raison du traitement rapide de plusieurs substrats en parallèle. De plus, le bras de transfert poudre-couche réduit les dommages ioniques au substrat. En plus de réduire les dommages ioniques, le bras assure également un meilleur contrôle de la température du substrat, ce qui peut contribuer à améliorer le rendement et la qualité du dispositif fini. Afin de maintenir un processus stable, AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA emploie un contrôleur de débit avancé. Cela inclut l'isolement en temps réel du substrat du flux d'échappement, ce qui contribue à réduire le nombre de variables dans le processus, ce qui permet d'obtenir des résultats plus cohérents et plus fiables. Le contrôleur de débit avancé permet également à l'utilisateur de contrôler la température du processus PECVD pour des résultats plus précis et contrôlés. AMAT ENDURA est un réacteur avancé PECVD qui offre une variété d'avantages au fabricant de l'appareil. Il permet le dépôt de matériaux à hautes performances, ainsi que de matériaux à bas k, avec une précision et une précision élevées, ce qui améliore les performances électriques. De plus, le contrôleur de débit avancé permet une meilleure gestion de la température et du substrat, fournissant un processus de production plus cohérent et fiable. MATÉRIAUX APPLIQUÉS ENDURA est un outil inestimable pour l'industrie des semi-conducteurs de pointe, permettant la création de dispositifs complexes et améliorés.
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