Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9198493 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Le réacteur ENDURA est un équipement avancé de dépôt de semi-conducteurs conçu pour le dépôt de couches minces de haute précision. Le système est capable d'automatiser de multiples processus en couches minces, y compris le dépôt physique en phase vapeur (PVD), le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), le dépôt en couche atomique (ALD) et le dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD). Il prend en charge plusieurs modules d'application, tels que Multi-Zone, plasma haute densité, et douche avancée. Cela permet des procédés de revêtement de haute précision avec une large fenêtre de processus. L'unité AMAT ENDURA est conçue pour répondre aux besoins des fabricants de semi-conducteurs, y compris le contrôle avancé des procédés, la production à grande vitesse et les revêtements de haute précision. La machine est capable d'établir une fenêtre de processus optimale pour chaque matériau et de fournir un contrôle de processus avancé ainsi qu'un débit élevé. En outre, sa conception optimisée des composants permet à son outil de maximiser la capacité de répondre à une variété d'exigences de processus. L'actif est composé de plusieurs composants tels que la chambre de procédé, la pompe à vide, les pompes à procédés et le contrôle, la gestion thermique et la cinématique sous vide. Il dispose de la technologie de tête de douche ionique pour le dépôt uniforme sans contact de couches minces sur les plaquettes. Il dispose également d'une source de plasma multi-zone pour un dépôt uniforme et un débit élevé. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le modèle ENDURA utilise les technologies PECVD et CVD pour le dépôt de matériaux à base de silicium et permet également le dépôt de matériaux métalliques et d'oxydes métalliques. Il supporte une large gamme de paramètres de processus plasmatiques, améliorant l'uniformité du dépôt et permettant la production de couches minces conformes. L'équipement supporte également un système de distribution cinématique sous vide qui permet une livraison rapide, précise et ininterrompue du matériau sur le substrat. L'unité ENDURA dispose également d'une interface conviviale qui permet à l'opérateur d'ajuster rapidement les paramètres pour optimiser le processus de dépôt. La machine comprend également une variété d'outils logiciels permettant aux utilisateurs de surveiller et de contrôler l'outil. En outre, l'actif a des capacités de sécurité et d'entretien avancées, y compris le nettoyage automatique des chambres et la notification si les paramètres de processus atteignent leurs limites. AMAT/APPLIED MATERIALS Le réacteur ENDURA est un modèle de réacteur avancé spécialement conçu pour répondre aux besoins des procédés avancés de fabrication de semi-conducteurs. Il comprend une variété de composants conçus pour assurer un dépôt de couches minces de haute précision et des revêtements conformes, des paramètres de processus avancés et une interface conviviale. L'équipement aide les fabricants à améliorer leur productivité, à réduire leurs variations et à améliorer leur contrôle des processus.