Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9198500 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA® Reactor est un équipement spécialisé conçu pour effectuer divers processus chimiques sur un large éventail de substrats. Ce type de réacteur est utilisé dans les industries des dépôts semi-conducteurs, photovoltaïques (PV) et à couches minces pour créer des couches de films sur des plaquettes ou autres substrats plats. Le réacteur AMAT ENDURAMD est capable de traiter à la fois le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et le dépôt physique en phase vapeur (PVD). L'armoire à gaz de la machine est équipée d'un maximum de 15 modules de traitement, offrant une flexibilité et permettant l'utilisation de différents gaz et produits chimiques dans la même chambre de traitement. Le débit et la distribution du gaz sont gérés par une séquence sophistiquée de vannes, d'orifices et de régulateurs de débit massique, assurant une alimentation précise et uniforme des gaz nécessaires au processus. Le substrat est placé dans l'enceinte et chauffé à la température désirée avant le début du processus de dépôt. Après introduction de tous les gaz nécessaires au procédé, on réalise alors un mélange approprié en utilisant une combinaison de puissance RF, de chimie des gaz et de pression de procédé. L'homogénéité du film déposé par le réacteur dépend fortement du maintien d'une pression et d'une température uniformes tout au long du processus de dépôt. Pour obtenir cette homogénéité, le réacteur est équipé d'une vue en quartz avec un pyromètre pour contrôler la température du substrat. Le réacteur utilise également une combinaison de méthodes de chauffage actif et passif pour assurer une température uniforme et stable du substrat. Des méthodes de chauffage actif comme l'induction RF et le mouvement linéaire du faisceau d'électrons sont utilisées pour chauffer précisément le substrat. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur ENDURA® est une machine polyvalente, capable d'utiliser pratiquement n'importe quelle chimie de procédé et les conditions optimales du réacteur pour un large éventail d'applications. Ceci en fait un choix avantageux pour les clients pour les procédés essentiels de dépôt en couches minces. Le réacteur utilise une combinaison de puissance RF, de chimie du gaz et de pression de procédé pour assurer un traitement fiable et reproductible, ainsi qu'un dépôt uniforme, une couverture de couche et une épaisseur de couche.