Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9198505 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA CVD Reactor est un équipement avancé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) qui est utilisé principalement pour créer des dispositifs semi-conducteurs à grande échelle et à haute performance. Le réacteur AMAT ENDURA est capable de déposer divers matériaux, notamment : silicium simple ou multicristallin (Si), germanium (Ge), nanotubes de carbone (CNT) et autres alliages nanométalliques conducteurs. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur ENDURA représente une avancée majeure en termes de coût et de capacité par rapport aux anciennes technologies de plate-forme. Le système ENDURA CVD est composé de trois chambres de conception verticale de mur chaud. La première chambre est le verrou de charge qui permet un échange de substrat plus rapide et plus sûr. La chambre intermédiaire est la chambre de traitement où le matériau est déposé et la vitesse de dépôt contrôlée. La chambre finale est la chambre de purge qui purge l'ensemble des matériaux restants. RÉACTEUR AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS ENDURA CVD est très efficace et a un faible coût de propriété. Le réacteur AMAT ENDURA est capable de se déposer directement sur de très grands substrats, jusqu'à 200 mm de plaquettes et il a également une capacité de dépôt à grande vitesse. Cela permet des débits élevés et des rendements sur des lots plus importants de substrats. En outre, le réacteur ENDURA MATÉRIAUX APPLIQUÉS est conçu avec des outils et des ressources avancés qui permettent un meilleur contrôle sur le comportement de la machine et se traduisent par une meilleure répétabilité et disponibilité du processus. Le réacteur CVD ENDURA offre un contrôle direct de la température des plaquettes, ce qui est un avantage supplémentaire pour contrôler l'uniformité des dépôts en couches minces. Il dispose également de capacités cycliques multi-zones avec un outil de chauffage de substrat embarqué et un module de mélange de gaz, ce qui permet un meilleur contrôle de l'uniformité sur l'ensemble du substrat. AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA CVD actif est également équipé de la fonction Auto-Gap qui définit automatiquement la distance substrat-tête de douche pour des taux de dépôt et une uniformité cohérents. AMAT ENDURA CVD modèle peut être utilisé pour une gamme d'applications dans toutes sortes d'industries, telles que la production de matériaux optiques en couches minces, couches de métallisation en couches minces et la création de dispositifs semi-conducteurs. Ces fonctions profiteront à un large éventail d'industries telles que les énergies renouvelables, les semi-conducteurs, l'électronique et l'aérospatiale. En résumé, MATÉRIAUX APPLIQUÉS ENDURA CVD Reactor est un équipement de dépôt chimique ex-situ révolutionnaire conçu pour offrir d'excellents taux de dépôt, uniformité et faible coût de propriété. ENDURA offre à ses utilisateurs des outils avancés tels qu'une régulation directe de la température des plaquettes, des capacités cycliques multi-zones et une fonction d'auto-gap, ce qui en fait une plate-forme idéale pour le développement de dispositifs semi-conducteurs à grande échelle et performants.