Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9198513 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Le réacteur ENDURA est un équipement polyvalent et efficace de dépôt chimique en phase vapeur enrichi par plasma (PECVD). Il est conçu pour offrir des performances et une fiabilité supérieures pour une large gamme d'applications de fabrication de dispositifs semi-conducteurs. AMAT ENDURA permet le dépôt épitaxial de différents métaux et diélectriques, la formation d'oxyde de grille et le dépôt de couches de contact. Il est équipé d'une source de plasma à injection directe avancée pour permettre une évacuation ultra-rapide de la chambre et une répartition uniforme de la densité du plasma, ainsi que des températures de processus hautement contrôlées pour assurer des performances fiables du dispositif. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur ENDURA utilise la technologie PECVD et la résonance cyclotron-électron (ECR) pour fournir un contrôle et un débit supérieurs. Les procédés PECVD permettent un dépôt répétable et uniforme des couches avec l'épaisseur, la vitesse et l'ondulation souhaitées grâce au système de distribution de précurseurs à base de silicone d'ENDURA. La technologie ECR offre des performances et une fiabilité accrues par rapport aux sources RF classiques, avec un coût d'exploitation moindre. Il offre également une homogénéité supérieure et un meilleur contrôle de la température du substrat sans sacrifier le débit. AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA est conçu pour être extrêmement flexible, permettant aux utilisateurs de configurer facilement l'unité pour diverses applications. Grâce à l'utilisation de modules et de composants interchangeables, le réacteur peut être personnalisé pour répondre à des besoins de processus spécifiques tels que des conduites de gaz et des composants supplémentaires, des variations dans la chambre à quartz et des applications sources. Il dispose également d'un ensemble de contrôle complet qui offre une gamme complète de fonctions de contrôle et d'optimisation des processus. AMAT ENDURA utilise une technologie de pré-nettoyage à base de plasma pour assurer la propreté des surfaces des plaquettes avant le processus de dépôt. Cette technologie de pré-nettoyage élimine les contaminants organiques et inorganiques de la surface de la plaquette, permettant des résultats supérieurs lors des processus de dépôt et de gravure. Le processus de pré-nettoyage réduit également le risque de dommages aux plaquettes qui peuvent être associés aux techniques de nettoyage par voie humide. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur ENDURA est une machine exceptionnelle pour les applications PECVD et ECR, offrant des performances de processus améliorées et des économies de coûts. Ses capacités de haute performance, sa flexibilité et son contrôle des processus permettent aux utilisateurs d'obtenir les résultats souhaités de manière efficace et fiable. Avec son large éventail de capacités et de performances, ENDURA est bien adapté aux applications avancées de fabrication de dispositifs semi-conducteurs.