Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9198528 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA
ID: 9198528
CH3 Wafer lift assies Part number: 0010-03438.
AMAT/APPLIED MATERIALS Le réacteur ENDURA est un outil de dépôt polyvalent largement utilisé dans l'industrie de la microélectronique pour créer des couches de matériaux indispensables à la fabrication de semi-conducteurs. L'équipement est conçu pour le dépôt de matériaux multiples, permettant des changements de produits rapides avec une interruption de processus minimale. De plus, la conception avancée du réacteur lui permet d'effectuer une variété de processus de dépôt atome par atome, allant du dépôt thermique chimique en phase vapeur (CVD) au CVD renforcé par plasma (PECVD) en passant par la résonance cyclotron électronique (ECR) PECVD. Le réacteur AMAT ENDURA est une chambre de dépôt de grande surface, offrant un dépôt uniforme sur des substrats de grande surface. Ceci est rendu possible par la conception du tube de réaction horizontal, qui produit un flux homogène de gaz réactif à travers l'ensemble de la chambre. Ce procédé est rendu possible par le système de positionnement de substrats unique et innovant, qui permet un positionnement facile et précis du substrat avec une implication minimale de l'opérateur. Le tube réactionnel est en graphite avec un revêtement pyrolitique qui est conçu pour optimiser le transfert thermique et minimiser la contamination du substrat pendant le processus de dépôt. Pour ce faire, le graphite se dilate facilement ou se contracte avec les différences de température du procédé, ce qui maintient l'homogénéité du matériau même à des températures allant jusqu'à 300 ° C L'ensemble tête de douche haut de la chambre assure une répartition uniforme des gaz réactifs sur toute la surface du substrat. Ceci se fait par la formation d'un jet de tête de douche qui répartit uniformément le gaz réactif sur le substrat. En plus du processus de dépôt, le réacteur ENDURA MATÉRIAUX APPLIQUÉS fournit également un certain nombre de systèmes de sûreté et de contrôle. L'unité comprend une source de gaz réactif ultra-basse température et une source de gaz sous vide. Ceci permet de déposer en toute sécurité les différents matériaux du dispositif semi-conducteur. En outre, la machine est également équipée de systèmes d'enregistrement et d'alarme complets et précis qui fournissent aux opérateurs des informations complètes sur le processus et l'instabilité des matériaux/étapes. Globalement, le réacteur ENDURA est un outil inestimable qui est utilisé pour créer des couches complexes et précises de matériau dans la fabrication de semi-conducteurs. Sa conception avancée assure un dépôt uniforme et une contamination minimale, tandis que ses systèmes de sécurité et de contrôle garantissent que même les matériaux les plus délicats sont déposés en toute sécurité avec la plus grande précision.
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