Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9198546 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Il est capable de produire des films de haute qualité à basse température de divers matériaux tels que le dioxyde de silicium, le nitrure de silicium et le tungstène. Il peut déposer des matériaux sur une large gamme de températures, ce qui le rend adapté à une variété d'applications dans les industries des semi-conducteurs, des LED et des énergies renouvelables. Le réacteur AMAT ENDURA a une forme cylindrique et est construit autour d'un agencement central de composants. Il se compose d'une chambre de procédé, qui peut être commutée entre des positions horizontales et verticales, d'un ensemble de levage mécanique qui permet un positionnement précis du suscepteur, d'un réseau RF et d'adaptation, d'un équipement de distribution de gaz de procédé et d'un système de contrôle de processus. La chambre de procédé du réacteur CVD DE MATÉRIAUX APPLIQUÉS ENDURA est utilisée pour manipuler l'environnement pour le dépôt de matériaux. Il utilise une atmosphère contrôlée de gaz de procédé, de chaleur et de pression pour synthétiser les films désirés. Les parois de la chambre sont constituées d'un carbure de silicium fritté, pressé à sec, ayant une capacité de température élevée et résistant à l'érosion. Les coins de la chambre sont munis de fenêtres amovibles en quartz pour permettre une analyse optique in situ. Un générateur RF et un réseau d'adaptation sont utilisés pour alimenter la chambre de réaction, qui peut être réglée à la fréquence désirée. L'ensemble de levage mécanique assure un mouvement vertical précis du suscepteur, qui est la base sur laquelle le matériau est déposé. Il utilise des actionneurs à commande pneumatique, qui peuvent soulever et abaisser le suscepteur à la position désirée. Le suscepteur lui-même est en graphite, et est chauffé à la température désirée. Il est également utilisé pour libérer la charge électrique. L'unité de distribution de gaz de procédé assure l'écoulement du gaz de procédé à la vitesse et à la pression appropriées vers la chambre de procédé. Il est constitué d'un injecteur, de vannes et d'un collecteur. L'injecteur fournit le gaz de procédé spécifié, et les vannes régulent leurs débits respectifs. Le collecteur de gaz de procédé est composé d'une série de plaques et de tubes qui dirigent le flux de gaz de l'injecteur vers la chambre de procédé. La machine de contrôle du processus du réacteur ENDURA CVD permet aux utilisateurs d'ajuster les différents paramètres liés au fonctionnement de la réaction, tels que le débit de gaz de procédé, la température, la pression et la tension appliquée. Il permet également aux utilisateurs de contrôler la température et la pression dans la chambre de procédé ainsi que la puissance électrique fournie à l'outil. AMAT/APPLIED MATERIALS Le réacteur ENDURA CVD est un outil efficace et fiable qui peut être utilisé pour créer une variété de films à base de carbone avec un contrôle précis du processus de dépôt. Il est conçu avec un accent sur la sécurité et le traitement efficace, ce qui en fait le choix idéal pour toute application sensible.