Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9202554 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA est un réacteur avancé de planarisation chimico-mécanique (CMP) conçu spécifiquement pour la fabrication de semi-conducteurs. C'est un outil important pour recouvrir, lisser et polir les surfaces des plaquettes avant le dépôt des composants du dispositif. Le réacteur utilise une approche de conception intégrée pour combiner une variété de procédés mécaniques et chimiques en un seul équipement. Il se compose d'une plate-forme CMP à double zone et rotative avec deux plateaux de 150 ou 200 mm qui tournent dans des directions opposées indépendantes l'une de l'autre. La plate-forme est équipée de moteurs à commande continue de précision, de contrôleurs de puissance programmables et d'un système de distribution de lisière in situ. En outre, la plate-forme dispose d'une unité de contrôle sophistiquée avec une puissante acquisition de données et une capacité en temps réel. Cela permet un contrôle avancé et la configuration de la carte, permettant de rappeler rapidement plusieurs recettes et paramètres de processus. Cela permet des niveaux de productivité élevés, avec jusqu'à quatre plateaux indépendants et un maximum de 20 paliers par plateau. Les opérateurs peuvent configurer une séquence de 16 étapes CMP, chacune avec des paramètres réglables tels que le type de lisier, l'état du coussin et les réglages de pression. Les caractéristiques mécaniques du réacteur AMAT ENDURA comprennent des fonctions avancées de contrôle de mouvement et d'amortissement, ainsi que des joints en caoutchouc et une machine de nettoyage souple pour s'assurer que les forces de contact des plaquettes sont contrôlées avec précision, conduisant à des vitesses uniformes et répétables d'enlèvement des matériaux. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur ENDURA offre également des niveaux élevés de compatibilité chimique afin qu'il puisse être utilisé avec un large éventail de boues et de produits chimiques pour divers procédés. La partie chimique de l'outil comprend une série de filtres en ligne pour aider à éradiquer les particules indésirables ainsi qu'un actif de surveillance de processus en ligne pour permettre des ajustements de processus en temps réel. Le modèle de distribution de lisier est alimenté par gravité et est réglé par une combinaison d'un régulateur de puissance programmable et d'un variateur de vitesse réglable. Cela permet un contrôle complet du débit de lisier et une surveillance et un contrôle automatisés des processus en temps réel. ENDURA est un réacteur CMP flexible et fiable qui offre aux utilisateurs la possibilité de perfectionner plusieurs étapes CMP avec la plus grande précision, efficacité et répétabilité. Cet outil a été un outil de travail constant pour le développement avancé des semi-conducteurs, permettant aux fabricants d'IC de produire des rendements plus élevés et des appareils plus petits. Les puissantes fonctions de contrôle et de mouvement permettent des niveaux élevés de précision et de répétabilité, et la compatibilité chimique permet l'utilisation de l'équipement dans une variété d'applications.