Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9202897 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA equipment est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) révolutionnaire conçu pour permettre le dépôt de couches ultra minces de matériaux pour créer des revêtements « intelligents », des surfaces métalliques transparentes et d'autres matériaux fonctionnels. Ce système de dépôt innovant est spécialement conçu pour être utilisé dans des applications de dépôt chimique en phase vapeur et fournit un transport de précurseurs supérieur et un dépôt de film uniforme et répétable pour une gamme d'applications industrielles, de recherche et de développement, pharmaceutiques et biotechnologiques. L'unité AMAT ENDURA possède une large gamme de caractéristiques qui en font un outil fiable et polyvalent pour le dépôt chimique en phase vapeur. Ce réacteur CVD est conçu avec une machine de contrôle automatisé des gaz robuste, fournissant un contrôle précis du débit et de la pression des gaz réactifs et porteurs. Cela garantit des résultats cohérents et de haute qualité tout en optimisant les taux de conversion, le débit et l'uniformité des dépôts en couches minces. MATÉRIAUX APPLIQUÉS ENDURA utilise un injecteur de gaz de conception unique, qui conduit à une dilution minimale du réactif et des gaz porteurs pour un contrôle détaillé de la concentration et du débit du réactif. ENDURA comprend également une gamme d'options pour contrôler précisément la température de la chambre de procédé. Ces options de régulation de température permettent de contrôler exactement les températures de substrat, réactif et porteur pour un dépôt rapide en couches minces. En outre, AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA est conçu avec une dérive basse pression et température pour une stabilité accrue du procédé et une uniformité des résultats. Ce contrôle de température permet des épaisseurs de couche cohérentes et uniformes, ce qui conduit à des caractéristiques de film homogènes et fiables. L'outil AMAT ENDURA a une conception à chambre unique qui maximise le débit du substrat, tout en permettant l'isolation complète du réactif et du substrat. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur ENDURA dispose également d'une faible empreinte qui lui permet d'être facilement incorporé dans les environnements des laboratoires et des lignes de production. En outre, ENDURA dispose d'un contrôleur de processus programmable avec des fonctions de contrôle entièrement automatisées, fournissant des résultats de processus reproductibles et contrôlés avec précision. Finalement, AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA offre une plateforme CVD efficace, fiable et polyvalente pour la production de produits en couches minces. Ce modèle de réacteur avancé est conçu pour la recherche et le développement et des applications industrielles, permettant des processus de fabrication personnalisés définis par l'utilisateur. Le réacteur AMAT ENDURA est également polyvalent et rentable, ce qui permet aux procédés de dépôt en couches minces de répondre facilement aux exigences d'application exactes.