Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9223707 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA est un équipement avancé de réacteur à haut débit à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour optimiser la production de dispositifs semi-conducteurs. AMAT ENDURA offre polyvalence et flexibilité pour répondre aux exigences évolutives des appareils avec un meilleur contrôle des processus et des performances. MATÉRIAUX APPLIQUÉS ENDURA est basé sur une conception CVD révolutionnaire, ce qui en fait un système hautement fiable, offrant un contrôle précis des processus, une meilleure produccibilité et des performances de cadence exceptionnelles. L'unité utilise une conception configurable verticalement et modulaire, avec une chambre de processus plus courte, permettant des taux de dépôt de film plus élevés et une empreinte plus faible que les systèmes traditionnels. Cette machine est également construite avec contrôle en boucle fermée pour des consignes de processus précises, est disponible avec un outil de distribution de gaz pour un débit de gaz précis, et comprend plusieurs chambres pour des formations de processus multi-étapes. ENDURA est composé d'un ordinateur central, d'une source de procédé, d'une chambre source, d'un étage de substrat, d'une chambre de procédé et d'un ventral d'échappement, chacun ayant des caractéristiques individuelles pour améliorer la performance et l'efficacité du procédé. L'ordinateur central est très automatisé et permet une configuration facile de plusieurs pièces d'équipement. La chambre source du procédé permet un débit précis de gaz, avec un contrôle avancé du débit de gaz, tandis que l'étage du substrat fournit un emplacement précis de l'échantillon, avec un contrôle indépendant de la température du substrat, pour permettre des conditions répétables tout au long de la production. La chambre de processus est le centre de l'actif, fournissant les conditions pour la réaction CVD. AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA est équipé d'une puissante source de plasma et assure un contrôle uniforme de la température, assurant une qualité de film fiable sur l'ensemble de la chambre et du substrat, même à des taux de dépôt élevés. La chambre est également livrée avec un HRU avancé (unité de récupération de chaleur), fournissant la chaleur produite de la source à l'étage de substrat et la chambre de processus pour réduire la consommation d'énergie, et optimiser davantage les débits de processus. Enfin, le ventral d'échappement permet de gérer les gaz réactifs et les fumées générées lors du traitement CVD. AMAT ENDURA offre un contrôle de processus supérieur et est conçu pour augmenter les rendements de production, minimiser les temps d'arrêt et maximiser la rentabilité. Sa conception modulaire et son fonctionnement efficace en font un outil expert pour réduire les coûts de production tout en améliorant les performances et la fiabilité. L'environnement CVD à haut débit et contrôlé du modèle en fait une solution idéale pour produire des dispositifs semi-conducteurs rapidement et efficacement.