Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9240194 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA
ID: 9240194
Taille de la plaquette: 8"
System, 8".
AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA est un réacteur de haute qualité à dépôt chimique en boucle fermée en phase vapeur (CVD) conçu pour le dépôt d'applications de transistor à couches minces (TFT) dans l'industrie des semi-conducteurs. Le réacteur AMAT ENDURA utilise une chambre de dépôt à double zone qui permet un environnement thermique étroitement contrôlé, afin d'assurer un dépôt de film uniforme et une plus grande sensibilité à la température au processus de dépôt. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur ENDURA est conçu pour assurer une homogénéité supérieure du film sur de grandes zones actives tout en conservant d'excellentes performances du dispositif. Le réacteur ENDURA est conçu avec des composants mécaniques simplifiés, offrant un échange optimal de substrat, un débit de gaz et une uniformité lors du dépôt. Le réacteur contient un collecteur interne de gaz et des vannes, qui permettent un apport précis et précis de gaz au substrat. La chambre à double zone permet de contrôler séparément les gradients thermiques sur la plaquette, d'améliorer le contrôle des procédés et d'uniformiser le dépôt des films. RÉACTEUR AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS ENDURA contient également un équipement de refroidissement magnétique à haut rendement pour réduire les chocs thermiques lors de l'échange du substrat. Le réacteur AMAT ENDURA offre un dépôt cohérent avec une variation minimale des performances du film. Il est également conçu pour déposer des profils de matériaux très conducteurs et complexes avec une précision exceptionnelle. L'homogénéité supérieure obtenue par le réacteur APPLIED MATERIALS ENDURA en fait un excellent choix pour des applications telles que la logique ultra-classe, les LCD à matrice active et les pilotes logiques à grande vitesse. Le réacteur ENDURA est un système CVD extrêmement capable et polyvalent, capable de déposer une variété de matériaux dont le silicium amorphe, le silicium polycristallin, le SiGe et le SnO2. L'unité dispose d'un boîtier de télécommande, permettant une surveillance et un fonctionnement faciles du réacteur. En outre, le réacteur ENDURA AMAT/APPLIED MATERIALS offre un contrôle thermique avec une machine à gaz étroitement couplée, permettant des rendements élevés avec une variation minime des performances du film. Le réacteur AMAT ENDURA est fiable, facile à utiliser et économique. Son homogénéité, sa précision et sa précision supérieures en font un choix idéal pour une large gamme d'applications de dispositifs dans l'industrie des semi-conducteurs. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur ENDURA offre les plus hautes performances associées à des capacités de dépôt fiables et rentables, et est un excellent choix pour ceux de l'industrie des semi-conducteurs à la recherche de systèmes de dépôt fiables et de haute qualité.
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