Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9266616 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor est une plate-forme CVD (Chemical Vapor Deposition) haute performance utilisée pour cultiver une variété de matériaux à couches minces. Il peut être utilisé pour réaliser une gamme de couches minces comprenant du silicium polycristallin, du nitrure de silicium, du silicium amorphe, du diélectrique et des couches métalliques. Grâce à son automatisation haut de gamme, l'équipement peut garantir des résultats reproductibles et un meilleur rendement de production. Ce système est équipé de la chargeuse à empilage de substrat ACELP (Advanced Epitaxial Lift-off Performance), qui contribue à améliorer le débit de production et l'efficacité. L'unité permet également aux utilisateurs de changer rapidement et avec précision de recette sans avoir besoin d'une intervention manuelle. La chambre de procédé est conçue pour répondre à un large éventail de besoins d'application, et elle offre également une excellente combinaison de stabilité de procédé, d'uniformité et de contrôle. Cette machine dispose d'un microcontrôleur haute performance qui permet des fonctionnalités d'automatisation comme auto-learning pour plus d'efficacité et de précision. Il est conçu pour réduire la complexité des recettes et raccourcir les cycles. L'outil dispose également d'une puissante interface graphique pour aider les utilisateurs à configurer et contrôler rapidement les processus. L'actif peut être intégré à un modèle d'automatisation en usine pour une surveillance et un contrôle accrus des processus. AMAT ENDURA Reactor est un équipement très fiable et flexible avec une large gamme de capacités. Il est bien adapté à la production en masse d'applications à haut volume et à couche moyenne ainsi qu'au dépôt de couches fines au niveau de la recherche. Grâce à des contrôles automatisés et à une surveillance robuste des processus et des rapports, ce système fournira des résultats fiables et uniformes. La conception efficace et fiable de cette unité en fait un choix idéal pour une large gamme de dépôts en couches minces et d'applications sous ultra-vide.