Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9266968 à vendre en France

ID: 9266968
Taille de la plaquette: 8"
PVD System Load lock: Narrow body (Automated) Buffer robot: HP XFER Robot: VHP Chamber-A: Pass-tru Chamber-B: Cool Chamber-C: PC2 LEYBOLD Turbovac 361C Turbo pump Chamber-D: TiN Body: Wide Magnet: K3/P4 Source Pedestal: 101 CTI-CRYOGENICS On-Board cryo pump DC Power missing Chamber-E and F: Orienter-Degas Chamber-L: Gamma II TI Body: Wide Magnet, P/N: 0010-20328 CTI-CRYOGENICS On-Board cryo pump DC Power: Master: MDX-L12M-650 Slave: MDX-L12M-650 Chamber-2: AL Body Magnet, P/N: 0010-20328 Pedestal: Clamp CTI-CRYOGENICS On-Board cryo pump Chamber-3: Ti Body: Wide Magnet, P/N: G12 0010-20225 CTI-CRYOGENICS On-Board cryo pump Chamber-4: TiN Body: Wide Magnet: G12 Pedestal: 101 CTI-CRYOGENICS On-Board cryo pump DC Power: Master: MDX-L12M Slave missing.
AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor est un grand dispositif de traitement sous vide utilisé dans la fabrication de circuits à base de semi-conducteurs. Plus précisément, le réacteur AMAT ENDURA est utilisé dans le procédé CVD (Chemical Vapor Deposition), qui est une étape clé dans la production de composants semi-conducteurs modernes. MATÉRIAUX APPLIQUÉS ENDURA Réacteur est composé de quatre composants principaux : la chambre à vide, l'entrée et les sorties de procédé, l'équipement de distribution de gaz, et le système de contrôle. La chambre à vide est un récipient hermétiquement fermé qui est conçu pour maintenir une propreté maximale et des niveaux de vide à l'intérieur de la chambre. L'entrée et la sortie du procédé donnent accès de l'environnement ambiant à la chambre, permettant l'entrée des gaz et l'évacuation des produits au terme d'un cycle de procédé. L'unité de refoulement de gaz est utilisée pour injecter des gaz inertes et réactionnels spécifiques dans la chambre du réacteur, qui interagissent ensuite avec le matériau du substrat dans le procédé CVD. Enfin, la machine de contrôle permet à l'opérateur de surveiller et de contrôler avec précision les réglages de la chambre, de la distribution de gaz et des paramètres de processus pour garantir un produit cohérent et de haute qualité. Les caractéristiques du réacteur ENDURA en font un choix idéal pour la fabrication de composants semi-conducteurs avancés. Il peut atteindre des températures allant jusqu'à 1000 ° C, ce qui permet l'interaction des gaz de réaction avec les substrats au niveau atomique pour former des structures complexes telles que des diélectriques à haut K et d'autres matériaux complexes. AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA est également optimisé pour un débit élevé, permettant le traitement rapide des wafers/substrats dans la production de CVD. Le contrôle précis de l'environnement du réacteur et les paramètres du processus permettent des résultats précis et reproductibles, tandis que les systèmes de sécurité intégrés assurent la sécurité des opérateurs à tout moment. Dans l'ensemble, AMAT ENDURA Reactor est un outil avancé de traitement sous vide conçu pour le processus CVD de fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Ses commandes précises et ses caractéristiques robustes permettent des performances précises et répétables, ce qui en fait un choix fiable et de qualité pour les procédés de fabrication avancés.
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