Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9266968 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
ID: 9266968
Taille de la plaquette: 8"
PVD System
Load lock: Narrow body (Automated)
Buffer robot: HP
XFER Robot: VHP
Chamber-A: Pass-tru
Chamber-B: Cool
Chamber-C: PC2
LEYBOLD Turbovac 361C Turbo pump
Chamber-D: TiN
Body: Wide
Magnet: K3/P4 Source
Pedestal: 101
CTI-CRYOGENICS On-Board cryo pump
DC Power missing
Chamber-E and F: Orienter-Degas
Chamber-L: Gamma II TI
Body: Wide
Magnet, P/N: 0010-20328
CTI-CRYOGENICS On-Board cryo pump
DC Power:
Master: MDX-L12M-650
Slave: MDX-L12M-650
Chamber-2: AL
Body
Magnet, P/N: 0010-20328
Pedestal: Clamp
CTI-CRYOGENICS On-Board cryo pump
Chamber-3: Ti
Body: Wide
Magnet, P/N: G12 0010-20225
CTI-CRYOGENICS On-Board cryo pump
Chamber-4: TiN
Body: Wide
Magnet: G12
Pedestal: 101
CTI-CRYOGENICS On-Board cryo pump
DC Power:
Master: MDX-L12M
Slave missing.
AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor est un grand dispositif de traitement sous vide utilisé dans la fabrication de circuits à base de semi-conducteurs. Plus précisément, le réacteur AMAT ENDURA est utilisé dans le procédé CVD (Chemical Vapor Deposition), qui est une étape clé dans la production de composants semi-conducteurs modernes. MATÉRIAUX APPLIQUÉS ENDURA Réacteur est composé de quatre composants principaux : la chambre à vide, l'entrée et les sorties de procédé, l'équipement de distribution de gaz, et le système de contrôle. La chambre à vide est un récipient hermétiquement fermé qui est conçu pour maintenir une propreté maximale et des niveaux de vide à l'intérieur de la chambre. L'entrée et la sortie du procédé donnent accès de l'environnement ambiant à la chambre, permettant l'entrée des gaz et l'évacuation des produits au terme d'un cycle de procédé. L'unité de refoulement de gaz est utilisée pour injecter des gaz inertes et réactionnels spécifiques dans la chambre du réacteur, qui interagissent ensuite avec le matériau du substrat dans le procédé CVD. Enfin, la machine de contrôle permet à l'opérateur de surveiller et de contrôler avec précision les réglages de la chambre, de la distribution de gaz et des paramètres de processus pour garantir un produit cohérent et de haute qualité. Les caractéristiques du réacteur ENDURA en font un choix idéal pour la fabrication de composants semi-conducteurs avancés. Il peut atteindre des températures allant jusqu'à 1000 ° C, ce qui permet l'interaction des gaz de réaction avec les substrats au niveau atomique pour former des structures complexes telles que des diélectriques à haut K et d'autres matériaux complexes. AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA est également optimisé pour un débit élevé, permettant le traitement rapide des wafers/substrats dans la production de CVD. Le contrôle précis de l'environnement du réacteur et les paramètres du processus permettent des résultats précis et reproductibles, tandis que les systèmes de sécurité intégrés assurent la sécurité des opérateurs à tout moment. Dans l'ensemble, AMAT ENDURA Reactor est un outil avancé de traitement sous vide conçu pour le processus CVD de fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Ses commandes précises et ses caractéristiques robustes permettent des performances précises et répétables, ce qui en fait un choix fiable et de qualité pour les procédés de fabrication avancés.
Il n'y a pas encore de critiques