Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9272620 à vendre en France
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AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA est un réacteur révolutionnaire à haut débit qui a révolutionné la fabrication de semi-conducteurs et de nanotech. L'équipement AMAT ENDURA est conçu pour être extrêmement flexible, avec un contrôle total des paramètres de processus de dépôt. Cela permet aux utilisateurs de s'adapter rapidement aux besoins changeants des processus. Le système bénéficie également d'une technologie de dépôt améliorée par le plasma qui améliore la qualité et le débit des matériaux. L'unité est équipée d'un vide de chambre de haute technologie qui permet un dépôt régulier et fiable. Cela assure une contamination minimale des particules, en déplaçant toutes les étapes du processus en une seule, ce qui conduit finalement à de meilleurs rendements. MATÉRIAUX APPLIQUÉS ENDURA est conçu pour être une machine modulaire, qui permet une flexibilité et une évolutivité accrues. Le réacteur est également conçu avec une configuration multi-puits qui permet une utilisation plus efficace de l'espace de processus. Cela permet d'installer plus facilement des équipements non standards, tels que des masques à quartz pour des applications photolithographiques, ainsi qu'une grande variété de précurseurs pour le dépôt. ENDURA dispose également d'une plate-forme logicielle puissante avec des paramètres de contrôle personnalisables pour répondre à divers besoins d'application. Cela inclut des capacités de contrôle multi-zones avancées qui permettent un contrôle précis des caractéristiques de dépôt. L'outil comporte également des fonctions de surveillance et de diagnostic à distance. En outre, AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA est très économe en énergie, grâce à un atout de refroidissement unique qui n'utilise l'énergie que lorsque nécessaire. Ce modèle est doté d'une technologie brevetée de refroidissement dynamique au gaz qui est capable de maintenir des températures de processus élevées, même dans des cycles de longue durée. AMAT ENDURA est un équipement de haute performance qui convient à de nombreux procédés différents, allant de l'ALD au dépôt de CVD. Il est capable de produire des résultats de haute qualité avec un gaspillage minimal de ressources précieuses. Avec sa flexibilité et son évolutivité, il peut être utilisé à la fois dans des environnements de production et de recherche, et il est bien adapté à un large éventail d'applications.
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