Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9312919 à vendre en France

ID: 9312919
Taille de la plaquette: 6"
PVD System, 6" Load lock: Narrow body (Automated) Buffer robot: HP XFER Robot: HP Chamber A: PC Chamber B: Cool Chamber E: Heat Chamber F: Orienter-Degas Chamber 2: AL Body: Standard Magnet: Assy 11.3" SRC STD 1 Pedestal: Clamp DC Power: MDX-L12 CTI-CRYOGENICS On-Board Cryo pump, 3-Phase Chamber 3: Hot AL Body: Standard Magnet: Assy 11.3" SRC STD 1 Pedestal: 101 DC Power: CMDX-L12 CTI-CRYOGENICS On-Board Cryo pump Chamber 3: Ti Body: Wide body with shutter Magnet: Assy 11.3" SRC WB 18 Pedestal: Clamp DC Power: MDX-L12M and MDX-L12 CTI-CRYOGENICS On-Board Cryo pump AC Rack Controller DC Power rack CTI-CRYOGENICS 8500 Cryo compressor CTI-CRYOGENICS 9600 Cryo compressor Missing parts: Loadlock cassette indexer assy Video PCB Hard Disk Drive (HDD) 5-Phase driver (3) DC Power supplies RF Power supply for PC chamber NESLAB Chiller.
AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA equipment est un réacteur de dépôt avancé conçu pour produire des films ultra-minces avec des couches précises à des vitesses rapides et des épaisseurs précises. AMAT ENDURA, qui signifie épitaxie, dépôt, gravure réactive et avancée, est un système composé de trois composants : MATÉRIAUX APPLIQUÉS ENDURA TE, systèmes de cellules et de chambres. ENDURA Chamber est une chambre de traitement thermique/sous vide ultra-précise capable de produire des substrats de plaquettes de haute qualité avec une grande précision. AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA TE comprend une unité de gaz avancée intégrée, un module de pompe à vide, une commande en temps réel, un bloc électrogène RF et une machine d'alimentation RF. AMAT ENDURA Cell comprend toute la gamme de composants et de contrôleurs de processus et de dépôts qui sont utilisés pour déposer et graver des couches de matériau de dépôt sur les substrats de la plaquette. MATÉRIAUX APPLIQUÉS ENDURA Cell comprend des composants avancés de distribution de gaz tels que la source ionique à faible débit massique, la source RF à forte puissance, l'anode, la cathode et la ligne de gaz de réaction, ainsi qu'une LED impulsionnelle, un laser impulsionnel et une électrode de polarisation haute tension. L'outil à gaz de pointe aide à surveiller et à contrôler le processus de dépôt, tandis que le générateur RF et l'électrode de polarisation haute tension contrôlent la polarisation électrique du substrat. L'actif ENDURA global est conçu pour produire une couche de dépôt uniforme avec une épaisseur précise et de haute précision sur toute la surface de la plaquette avec une répétabilité de haute précision (+/- 1A) et une vitesse de traitement élevée. L'ensemble du modèle, y compris AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Cell, est conçu pour être facile à utiliser et autodiagnostiquer, en veillant à ce que l'utilisateur soit doté de performances fiables et de haute fidélité même lors d'opérations prolongées. AMAT ENDURA Cell, avec son équipement de gaz intégré, sa source RF et son biais variable, peut traiter plusieurs films en parallèle, ce qui permet des processus de débit plus élevés et un coût de propriété réduit. MATÉRIAUX APPLIQUÉS ENDURA TE est conçu pour être très efficace, avec une alimentation électrique à faible consommation et une faible empreinte, ce qui le rend idéal pour les petits laboratoires. Le système ENDURA est le choix idéal pour toute industrie nécessitant des procédés de dépôt fiables et de haute précision. Il est très efficace et possède des capacités de traitement thermique et sous vide de pointe, des systèmes de gaz et des sources RF, offrant une excellente répétabilité, des vitesses rapides et une épaisseur précise. Ses systèmes de gaz intégrés et ses biais variables permettent de contrôler complètement le processus de dépôt, tandis que son alimentation électrique à faible consommation et son faible encombrement le rendent idéal pour tout laboratoire de taille. Pour des performances fiables et de haute fidélité, rien ne vaut l'unité AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA.
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