Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Producer SE #9204008 à vendre en France

ID: 9204008
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2006
Twin chamber, 12" Process: APF Major part: RPS: MKS FI80131(Astron ex) HF RF Generator: 0920-00107(Apex3013) Ceramic heater: AIN Gas panel: 1-1/8 C-Seal surface mount AC box: 0195-01042 Heater lift driver: 1080-00126 Pin lift driver: 0190-13840 Manometer: 20T / 100T Throttle valve: 683B-26033 ISO Valve: 99D0654 Process kit: Top liner Middle liner Bottom liner Pumping ring Lift hoop AL Spacer Gas configuration: Gas Size(sccm) MFC Filter Valve Stick 1 02 15,000 UFC-8565C NAS Hamlet Stick 2 AR 5,000 UFC-8565 NAS Hamlet Stick 3 HE 5,000 UFC-8565C NAS Hamlet Stick 4 C3H6 3,000 IFC-125 NAS Hamlet Stick 5 N2 Purge NA NA Hamlet Stick 7 N2 15,000 UFC-8565C NAS Hamlet Stick 10 02 15,000 UFC-8565C NAS Hamlet Stick 11 N2 Purge NA NA Hamlet Stick 12 NF3 5,000 UFC-8565C NAS Hamlet Stick 13 AR 10,000 UFC-8565C NAS Hamlett Aluminum slit insert missing Lift ring(Fixed type): Localized 2006 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Le producteur SE est un réacteur avancé de type PECVD (plasma-enhanced chemical vapour deposition) conçu pour la production de films de haute qualité résistant aux dommages chimiques et physiques. Ce réacteur a la capacité de déposer des couches minces de nitrure, d'oxyde et de matériau diélectrique ainsi que de diamant et de matériaux amorphes. Il dispose d'une source d'alimentation numérique puissante, mais stable et précise, qui permet un contrôle précis des taux de dépôt et de l'uniformité. Ces caractéristiques font d'AMAT Producer SE un choix idéal pour la production de divers films minces qui sont utilisés pour une variété d'applications. Les principaux composants de APPLIED MATERIALS Producer SE sont sa chambre, sa source de dépôt, son support et son automatisation. La chambre est conçue pour un fonctionnement PECVD haute densité, qui permet des taux de dépôt plus élevés que les systèmes CVD plus classiques. Il est en acier inoxydable et dispose de plusieurs joints d'étanchéité pour maintenir un vide lorsque le système est en fonctionnement. La source est située au sommet du réacteur et comprend un générateur de plasma hyperfréquence et RF, une vanne de sortie de gaz et un support de substrat. Le générateur hyperfréquence est équipé d'une unité de contrôle de fréquence qui permet un contrôle précis de la puissance et de la fréquence de l'énergie hyperfréquence. La source RF fournit une source d'énergie supplémentaire et augmente la vitesse de dépôt. Le support de substrat est composé d'un cadre en acier inoxydable avec des fenêtres en céramique d'alumine qui assure un chauffage uniforme du substrat. Le système d'automatisation comprend un bras robotisé commandé par ordinateur pour le chargement et le déchargement des substrats, ainsi qu'un logiciel d'automatisation des processus pour le contrôle du processus de dépôt. Producteur SE est une plate-forme très avancée pour produire des films minces supérieurs. Sa capacité à créer des films extrêmement résistants à la dégradation chimique et physique en fait un excellent choix pour de nombreuses applications industrielles. Il est également capable de déposer des films uniformes avec des performances et une reproductibilité supérieures. La source d'alimentation numérique robuste en fait également un choix idéal pour la production d'appareils et de matériaux émergents pour les dispositifs semi-conducteurs de prochaine génération.
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