Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Producer SE #9240191 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS Producer SE
ID: 9240191
Taille de la plaquette: 8"
System, 8".
AMAT/APPLIED MATERIALS Le producteur SE est un type de réacteur destiné à être utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour la fabrication de plaquettes semi-conductrices. Il est constitué d'une source thermalisée, d'un équipement de distribution de gaz, d'un système d'électrodes et d'une chambre à vide dans laquelle les plaquettes peuvent être soumises à une gamme de traitements de gaz. AMAT Producer SE utilise une unité à filament chaud pour le dépôt chimique en phase vapeur d'oxyde de silicium, de silicium polycristallin et de matériaux connexes. La surface thermique du filament est chauffée à la température requise, typiquement 600 ° C, pour permettre la décomposition des produits chimiques volatils. Après décomposition suffisante des vapeurs, celles-ci sont introduites dans la chambre à vide à pression et débit contrôlés, où elles sont déposées sur les surfaces des plaquettes. La source et les électrodes contribuent à maintenir l'uniformité de l'environnement gazeux combiné dans la chambre. Les électrodes ont deux fonctions : l'une est de maintenir une tension de polarisation continue négative, ce qui aide au processus de dépôt, et l'autre est de maintenir la pression de chambre correcte. La machine de distribution de gaz est composée de plusieurs composants dont un régulateur de débit massique, un collecteur de gaz, et soit une vanne à distance ou intégrée. Le collecteur de gaz recueille et achemine les gaz du régulateur de débit massique vers la chambre, et la vanne est utilisée pour régler la pression de gaz dans la chambre. Enfin, l'outil à filament thermalisé contribue à augmenter la vitesse, la stabilité et l'uniformité du procédé de dépôt. Les filaments thermalisés sont conçus pour réduire le gradient thermique du filament, ce qui contribue à créer une vitesse de dépôt plus rapide et plus uniforme. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le producteur SE est un réacteur puissant conçu pour le dépôt d'oxyde de silicium, de silicium polycristallin et de matériaux connexes sur des plaquettes semi-conductrices. Il est composé d'une source thermalisée, d'un actif de distribution de gaz, d'un modèle d'électrodes et d'une chambre à vide. L'équipement à filament thermalisé aide à maintenir un gradient thermique et une pression de gaz uniformes dans la chambre, tandis que les électrodes fournissent la tension de polarisation continue nécessaire pour un processus de dépôt uniforme. Toutes ces caractéristiques, lorsqu'elles sont combinées, font de ce réacteur un outil efficace et polyvalent pour la fabrication de plaquettes semi-conductrices.
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