Occasion DNS / DAINIPPON SS-W80A-AVR #293591705 à vendre en France

DNS/DAINIPPON SS-W80A-AVR wafer & mask scrubber est un équipement automatisé de nettoyage de wafer et de masque qui peut être utilisé pour traiter les problèmes de contamination de surface les plus complexes et les plus difficiles. Il utilise une combinaison exclusive de procédés chimiques et de pression pour obtenir le plus haut niveau de propreté sur les surfaces des plaquettes et des masques utilisés dans la fabrication des semi-conducteurs. Le système se compose d'un module d'épuration intégré monté sur une plate-forme et se compose de plusieurs composants, dont un récipient sous pression, une base de support, un réservoir chimique, une brosse d'épuration et une unité d'injection chimique. Le récipient à pression est conçu pour manipuler des plaquettes jusqu'à 450 mm de diamètre et des masques jusqu'à 300 mm de largeur. Il est conçu pour être utilisé en combinaison avec des solutions chimiques à basse température pour éliminer les particules, les sols et les résidus organiques de la surface du substrat. La base de support maintient la cuve sous pression et fournit une plate-forme réglable sur laquelle la cuve sous pression peut être soulevée ou abaissée en fonction des différentes exigences du cycle de nettoyage. Il sert également de plate-forme pour le montage du module d'épuration, du réservoir chimique et de la machine d'injection. L'unité d'épuration est un boîtier cylindrique contenant une série de fixations porte-plaquettes et porte-masques qui servent à maintenir le substrat pendant le processus d'épuration. La brosse d'épuration est montée au sommet de l'unité pour assurer un nettoyage efficace de la surface du substrat. Le réservoir chimique fournit la solution de nettoyage pour le procédé. C'est un outil à température contrôlée qui permet d'obtenir des rapports de mélange chimique précis et des débits pour des résultats de nettoyage optimaux. L'actif d'injection est conçu pour injecter la solution de nettoyage chauffée et pré-mélangée dans le récipient sous pression. Cela garantit que le substrat est uniformément et complètement revêtu de la solution de nettoyage, ce qui contribue à assurer des résultats de nettoyage cohérents. En plus de l'unité de nettoyage, le modèle comprend également une série de dispositifs de surveillance et de contrôle, tels que le contrôleur de moniteur. Ce composant est conçu pour s'assurer que l'équipement conserve une performance et une propreté optimales tout au long du processus. L'épurateur à plaquettes et masques DNS SS-W80A-AVR fournit le plus haut niveau de résultats de nettoyage sur la surface du substrat. Avec sa conception intégrée, son nettoyage automatisé et son récipient sous pression de précision, il est la solution idéale pour les applications les plus exigeantes de nettoyage des plaquettes et des masques et d'élimination des contaminants.