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R3
Plasma cleaner Low frequency Mass Flow Controller (MFC) N2 Flow rate: 1.7 SCFM Process gas flow rate
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R3
Plasma cleaner Sequential microprocessor: Up to 90 separate one or two gas programs Power supply: YE
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R3
PLasma cleaner Lark sequencer YES 500 Generator (2) gas inputs (2) shelves 12.75" x 12.75".
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