Occasion STEAG Marangoni #138851 à vendre en France

STEAG Marangoni est un équipement photorésist moderne qui est utilisé dans les procédés de fabrication de semi-conducteurs, de MEMS et d'autres microélectroniques. Elle consiste en une émulsion sensibilisante spéciale qui est appliquée sur un substrat, typiquement une plaquette de silicium, afin de la rendre plus sensible à l'exposition à la lumière laser. L'émulsion est constituée d'une solution aqueuse d'une base organique et de composés contenant des composés photoactifs. Lorsque le substrat est exposé à la lumière laser, ces composés se dissocient rapidement, formant des radicaux entrant dans des réactions photochimiques, formant un film d'oxyde d'aluminium sur le substrat. Le système photorésist Marangoni est conçu pour fournir des résultats lithographiques supérieurs avec une précision et une cohérence exceptionnelles. L'épaisseur et la surface du film d'oxyde d'aluminium produit par l'unité sont très homogènes et conformes à la topographie du substrat. Cette précision est due à des revêtements antireflet de haute qualité qui sont ajoutés au substrat, ainsi qu'au dépôt de haute précision de l'émulsion photorésist. En plus de fournir des résultats lithographiques supérieurs, STEAG Marangoni photoresist machine a également une excellente adhérence et la stabilité thermique. L'adhérence du film d'oxyde d'aluminium sur le substrat est excellente, ce qui permet au film de résine photosensible de rester fermement attaché. La stabilité thermique de la résine photosensible lui permet de résister à des températures allant jusqu'à 300℃ sans perte d'adhérence significative. L'outil photorésist Marangoni peut être utilisé dans un large éventail d'applications, y compris la production de dispositifs semi-conducteurs, de dispositifs MEMS et d'autres composants microélectroniques. Elle est particulièrement adaptée à la fabrication de composants semi-conducteurs présentant des caractéristiques de rapport d'aspect élevé, tels que tranchées, rainures et cavités. Ses résultats de lithographie supérieurs et sa grande stabilité thermique en font le choix idéal pour les applications de fabrication microélectronique nécessitant précision et fiabilité.