Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #293620432 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 est un équipement de traitement de photorésistance conçu spécifiquement pour le développement automatisé de dispositifs semi-conducteurs. Le système utilise un procédé de dépôt tocoat une surface de plaquette avec matériau de revêtement photorésist, qui est ensuite exposé à la lumière UV pour former un motif désiré. Le motif est ensuite développé et transféré sur la plaquette par gravure. L'unité TEL Clean Track Mark 7 se compose d'une piste de rotation à deux niveaux pour la gravure et d'une machine à vide, toutes deux reliées par une électronique de commande intégrée. La spin-track comporte deux chambres : la chambre supérieure est utilisée pour le dépôt de photorésist, tandis que la chambre inférieure est utilisée pour l'exposition du matériau à la lumière UV. L'outil sous vide fournit une pression de vide pour la gravure et le retrait de la résine photosensible de la surface de travail. TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 est livré avec une gamme de fonctionnalités avancées, y compris un atout de transfert automatisé, un mécanisme de manutention de substrat factice, un contrôle étendu de la température, un contrôle de la pression d'alimentation en air, un contrôle de refroidissement, un aligneur de plaquettes et un modèle intégré de surveillance des défauts. L'électronique de contrôle intégrée est hautement configurable et offre une large gamme de fonctionnalités telles que le paramétrage des plaquettes, la gestion des recettes et la surveillance des rendements générés. L'équipement comprend également une gamme de dispositifs de sécurité avancés pour protéger le personnel, tels que l'interrupteur de verrouillage et le capteur de température. Enfin, Clean Track Mark 7 supporte une grande variété de matériaux photorésistants et est conçu pour une efficacité accrue des processus. Le système présente également un haut degré d'automatisation et de contrôle qui peut améliorer la vitesse, la précision et la répétabilité des étapes de dépôt, de développement et de gravure du traitement de la résine photosensible.